[发明专利]透光性压模、其制造方法和多层光记录介质的制造方法无效
申请号: | 200810095475.8 | 申请日: | 2008-04-23 |
公开(公告)号: | CN101295133A | 公开(公告)日: | 2008-10-29 |
发明(设计)人: | 住冈由香里 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00;G11B7/26 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 秦晨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 透光 性压模 制造 方法 多层 记录 介质 | ||
1.一种制造具有多个记录层的多层光记录介质的方法,包括下 述步骤:
a)在光记录介质的基底上形成记录膜;
b)在所述记录膜上涂敷用于形成中间层的光致固化树脂;
c)用紫外线通过透光性压模照射用于形成中间层的光致固化树 脂,以将信息图案转印至用于形成中间层的光致固化树脂上;和
d)在用于形成中间层的光致固化树脂上层叠记录膜,
其中所述透光性压模包括:具有透光性的基底;辅助层,具有 透光性且被堆叠于所述基底上;和无机抗蚀剂层,具有透光性且被堆 叠于所述辅助层上,
其中在所述辅助层和所述光致固化树脂之间的剥离性高于在具 有透光性的基底和所述光致固化树脂之间的剥离性,且所述无机抗蚀 剂层在其中形成有对应于信息图案的非均匀图案,具有透光性的所述 辅助层在无机抗蚀剂层的非均匀图案的凹部中被暴露,
其中所述无机抗蚀剂层包括氧化钨、氧化钼、以及氧化钨中的 一部分钨被钼取代的氧化物中的任意一种作为主要成分,这些氧化物 中的每一种都具有小于该种氧化物的理想配比氧含量的氧含量,并且
其中所述辅助层包括氮化硅、氧化硅、氧化钛及它们的混合物 中的任意一种。
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