[发明专利]彩色滤光片及其制造方法

权利要求书

1、一种彩色滤光片制造方法，其特征在于，包括：

提供一基板；

形成一带电感光层于该基板上；

形成一带电遮光层于该带电感光层上，以定义出多个次像素区；以及

形成至少一带电彩色光刻胶于多个次像素区中。

2、如权利要求1所述的彩色滤光片制造方法，其特征在于，其中，该带电感光层与该带电遮光层电性相吸，该彩色光刻胶与该带电遮光层电性相斥。

3、如权利要求1所述的彩色滤光片制造方法，其特征在于，其中，该带电感光层经由蒸镀法、分子束外延成长、化学气相沉积法、物理气相沉积法或旋涂法的其中之一的方式而形成于该基板上。

4、如权利要求1所述的彩色滤光片制造方法，其特征在于，其中，该带电感光层材质为一半导体光触媒材料。

5、如权利要求4所述的彩色滤光片制造方法，其特征在于，其中，该半导体光触媒为经照光后可产生多个氢氧自由基的材料。

6、如权利要求1所述的彩色滤光片制造方法，其特征在于，其中，该带电感光层为氧化钛、氧化锌、氧化锡或氧化锆的其中之一。

7、如权利要求1所述的彩色滤光片制造方法，其特征在于，其中，该带电遮光层材质为一带电黑色光刻胶。

8、如权利要求2所述的彩色滤光片制造方法，其特征在于，其中，该带电彩色光刻胶与该带电遮光层皆带有负电，而该带电感光层则带有正电。

9、如权利要求1所述的彩色滤光片制造方法，其特征在于，其中，该带电彩色光刻胶为红色光刻胶、绿色光刻胶或蓝色光刻胶的其中之一。

10、如权利要求1所述的彩色滤光片制造方法，其特征在于，其中，该带电彩色光刻胶与该带电遮光层包括极性分子、纳米离子、导电高分子及其任意组合的物质。

11、一种彩色滤光片，其特征在于，包括：

一基板；

一带电感光层，形成于该基板上；

一带电遮光层，形成于该带电感光层上，以定义出多个次像素区；以及

至少一带电彩色光刻胶，形成于多个次像素区中。

12、如权利要求11所述的彩色滤光片，其特征在于，其中，该带电感光层与该带电遮光层电性相吸，该彩色光刻胶与该带电遮光层电性相斥。

13、如权利要求11所述的彩色滤光片，其特征在于，其中，该带电感光层材质为一半导体光触媒材料。

14、如权利要求13所述的彩色滤光片，其特征在于，其中，该半导体光触媒为经照光后可产生多个氢氧自由基的材料。

15、如权利要求11所述的彩色滤光片，其特征在于，其中，该带电感光层为一氧化物。

16、如权利要求15所述的彩色滤光片，其特征在于，其中，该带电感光层为氧化钛、氧化锌、氧化锡或氧化锆的其中之一。

17、如权利要求11所述的彩色滤光片，其特征在于，其中，该带电遮光层材质为一带电黑色光刻胶。

18、如权利要求12所述的彩色滤光片，其特征在于，其中，该带电彩色光刻胶与该带电遮光层皆带有负电，而该带电感光层则带有正电。

19、如权利要求11所述的彩色滤光片，其特征在于，其中，该带电彩色光刻胶为红色光刻胶、绿色光刻胶或蓝色光刻胶的其中之一。

20、如权利要求11所述的彩色滤光片，其特征在于，其中，该带电彩色光刻胶与该带电黑色光刻胶包括极性分子、纳米离子、导电高分子及其任意组合的物质。