[发明专利]用于塑料透镜与装置的氟化高聚物低反射层无效

专利信息
申请号: 200810096217.1 申请日: 2003-10-07
公开(公告)号: CN101275046A 公开(公告)日: 2008-10-01
发明(设计)人: S·伊瓦托;M·卡库;A·E·费林;R·E·乌肖尔德;R·C·惠兰 申请(专利权)人: 纳幕尔杜邦公司
主分类号: C09D127/14 分类号: C09D127/14;B05D7/02;G02B1/11
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 王颖煜;韦欣华
地址: 美国特拉华*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 塑料 透镜 装置 氟化 高聚物低 反射层
【说明书】:

本申请是国际申请日为2003年10月07日,国际申请号为PCT/US2003/032090,发明名称为“用于塑料透镜与装置的氟化高聚物低反射层”,国家申请号为200380110489.8的进入中国国家阶段的国际专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及氟化高聚物涂层塑料。更具体地说,本发明涉及具有良好粘合、低反射性、以及拒水性和拒油性的氟化高聚物涂层塑料。

背景技术

已经进行了许多与低反射塑料、特别是用于塑料透镜和光学装置的反射塑料的研究工作。所用的一种方法是在塑料表面上氧化金属的蒸气化分布,然而,该方法使用批处理工艺,并且当基底较大时,生产率变低。另一种方法是施用氟化高聚物溶液的涂层。通过浸渍法形成涂层,并以高生产率应用于较大基底。尽管氟化高聚物具有低反射指数,但是它们与塑料基底的粘合非常差。很长时间以来一直在研究氟化高聚物和基底塑料之间的粘合。本发明的目的是提供使用氟化高聚物溶液以得到低反射指数和良好粘合的技术。

发明简述

本发明提供的单层涂层体系包括由下式表示的氟化共聚物:

VF2/TFE/HFP

其中四氟乙烯(TFE)与六氟丙烯(HFP)的摩尔比为0.1-1.9,并且VF2的含量为47-60摩尔%。优选VF2含量为50-60摩尔%。更优选其中TFE与HFP的摩尔比为0.9-1.9,并且对于聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)基底,VF2的含量优选为47-60摩尔%,对于聚碳酸酯(PC)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚砜(PS)和玻璃基底,VF2的含量优选为47-50摩尔%。

还优选其中VF2含量为从大于50至60摩尔%;更优选其中基底为PMMA、PC、PET、PS或者玻璃。

本发明还提供了单层涂层体系,其包括由下式表示的氟化共聚物:

VF2/HFP,

其中VF2含量为约40-80%。优选地,VF2含量为约40-50摩尔%并且基底为PMMA。还优选VF2含量为约70-80摩尔%并且基底为玻璃。

本发明还提供了单层涂层体系,其包括由下式表示的氟化共聚物:

VF2/TFE/PMVE,

其中VF2含量为约18-60摩尔%并且TFE/PMVE的摩尔比为0.1-1.9。优选VF2含量为约30-35摩尔%,TFE/PMVE的摩尔比为约0.2-0.3并且基底是PMMA。

在本发明的单层涂层体系中,涂层厚度优选为约10-1000纳米,更优选为约30-120纳米,最优选为约70-120纳米。

发明详述

已经发现单层体系赋予在光学透明塑料基底上具有良好粘合的低反射涂层。优选的基底为PMMA、PC、PET和PS以及玻璃。

本发明提供的单层涂层体系包括由下式表示的氟化共聚物:

VF2/TFE/HFP,

其中TFE与HFP的摩尔比为0.1-1.9,并且VF2含量为47-60摩尔%,优选50-60摩尔%。这些组成平衡了低反射所需的高氟化量,光学透明度所需的高HFP含量,以及赋予与基底的良好粘合所需的足够的VF2含量。更优选其中TFE与HFP的摩尔比为0.9-1.9,并且对于PMMA基底,VF2含量优选为47-60摩尔%,对于PC、PET和玻璃基底,VF2含量优选为47-50摩尔%。

单层体系的另一个实施方案包括由下式表示的氟化共聚物:

VF2/HFP,

其中VF2为约40-80摩尔%。该体系基本上由两种单体组成,很少或未引入其他单体。优选地,VF2含量为约40-50摩尔%并且基底为PMMA。还优选VF2含量为约70-80摩尔%并且基底为玻璃。

单层涂层体系的另一个实施方案包括由下式表示的氟化共聚物:

VF2/TFE/PMVE,

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于纳幕尔杜邦公司,未经纳幕尔杜邦公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810096217.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top