[发明专利]过程监控器以及半导体制造装置有效

专利信息
申请号: 200810096963.0 申请日: 2003-09-30
公开(公告)号: CN101299407A 公开(公告)日: 2008-11-05
发明(设计)人: 汤浅光博 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;H01L21/66;H01L21/3065
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 代理人: 王怡
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 过程 监控器 以及 半导体 制造 装置
【权利要求书】:

1.一种用于监控半导体制造过程的过程监控装置,其包括:

容器元件,该容器元件是盒室、搬送机器人室、校准室和用于传感器晶片的专用室之一;

监控器元件,其包括晶片和多个附接到所述晶片的传感器,所述监控器元件能够由搬送机器人搬送到处理设备的目标环境中或者搬送到所述容器元件中;以及

包括在所述容器元件中的充电机构和读出机构,所述充电机构和读出机构在所述监控器元件被搬送到所述容器元件中时可与所述监控器元件通信,

其中,所述充电机构对所述监控器元件的电源进行充电,并且利用非接触技术向所述充电机构传送功率。

2.如权利要求1所述的过程监控装置,其中,所述充电机构和读出机构在所述监控器元件被搬送到所述容器元件中时自动地与所述监控器元件通信。

3.如权利要求1所述的过程监控装置,其中,所述非接触技术包括使用无线通信或红外线。

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