[发明专利]一种实时监测反应室漏气的方法

说明书

技术领域

本发明涉及监测反应室漏气的方法，尤其涉及一种实时监测反应室漏气的方法。

背景技术

如图1所示，目前反应室采用蚀刻终点侦测光谱仪，其只能侦测405nm和520nm波长的光谱。而且，反应室监测漏气速率(Leak rate)只在日常测机和机台保养后测机才进行，无法对其进行实时监测。在生产时，反应室如果有漏气，则会对产品的品质带来一定的影响，如不能及时发现，将会影响较多的产品品质。

发明内容

本发明的目的在于实现实时监测反应室是否有漏气。

本发明提供了一种实时监测应室漏气的方法，该方法使用全波长光谱仪来实时监测反应室漏气的状况。

上述反应室是蚀刻反应室，反应室与外界空气隔绝，形成封闭的真空环境。

上述反应室可以是LAM-RAINBOW 4428XL反应室。

上述全波长光谱仪监测到CN光谱，也就是387nm波长的光谱，则确定上述反应室漏气。

上述CN是漏入反应室的氮气(N2)与反应室中的碳(C)在等离子体作用下的反应生成物。

上述全波长光谱仪在蚀刻过程中实时监测反应室是否漏气。

通过实时监测反应室是否漏气，从而可监测处理过程的稳定性，降低甚至避免产品异常风险，提高产品品质。

附图说明

图1表示公知的反应室所采用的光谱测量示意图；

图2表示本发明的最佳实施例的采用全波长光谱仪进行光谱测量的示意图；

图3表示本发明的最佳实施例的各部件连接示意图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式，对本发明所述的一种实时监测反应室漏气的方法作进一步的详细说明。

本发明的一个实施例是将全波长光谱仪用于监测反应室漏气情况的方法，该反应室可以是蚀刻反应室，其与外界空气隔绝，形成封闭的真空环境，例如LAM-RAINBOW 4428XL反应室。LAM-RAINBOW 4428XL反应室(即蚀刻反应室)是等离子体模式，全波长光谱仪是用来侦测蚀刻终点的仪器。如图2所示，全波长光谱仪与反应室之间通过缆线相连。如果有空气从外界漏入该反应室，则便会有氮气进入反应室中，氮气会与反应室中的碳(C)反应生成CN。

上述CN光谱的波长为387nm。一旦反应室漏气，全波长光谱仪就能侦测到387nm波长的光谱，从而在整个蚀刻过程中连续实时监测蚀刻反应室是否漏气。

如图3所示，反应室在工作前由操作员键入线条，侦测是否漏气的线条(即387nm波长的光谱)就可以同侦测蚀刻终点的线条一起键入，如果反应室漏气，387nm波长的光谱就会在机台侦测的电脑屏幕上显示出信号线条。

本发明所述的方法可以用于监测任何真空反应室的漏气情况。

以上所述仅为本发明的较佳实施例，并非用来限定本发明的实施范围；如果不脱离本发明的精神和范围，对本发明进行修改或者等同替换的，均应涵盖在本发明的权利要求的保护范围当中。