[发明专利]自旋累积磁化反转型存储元件及自旋RAM有效

专利信息
申请号: 200810098862.7 申请日: 2008-05-19
公开(公告)号: CN101325087A 公开(公告)日: 2008-12-17
发明(设计)人: 三浦胜哉 申请(专利权)人: 株式会社日立制作所
主分类号: G11C11/16 分类号: G11C11/16;H01L43/08
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 代理人: 熊志诚
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 自旋 累积 磁化 转型 存储 元件 ram
【权利要求书】:

1.一种存储元件,其特征是,

具有:铁磁性字线,

与上述铁磁性字线交叉的非磁性位线,

与上述铁磁性字线相对的布线,

在上述铁磁性字线及上述非磁性位线的交叉部分和上述布线之间设 置的磁阻效应元件;

上述磁阻效应元件具有在上述布线侧设置的第一铁磁性层,在上述铁磁性 字线侧设置的第二铁磁性层,在上述第一铁磁性层和上述第二铁磁性层之间设 置的非磁性层;

在写入动作时,通过使电流在上述铁磁性字线和上述非磁性位线之间流 动,使自旋从上述铁磁性字线累积到非磁性位线,从而使上述第二铁磁性层的 磁化方向反转;

在读出动作时,使电流沿上述磁阻效应元件的膜厚方向流动,

其中,在上述写入动作时,通过使电流从上述非磁性位线向上述铁磁性字 线流动,从而使逆自旋从上述铁磁性字线累积到上述非磁性位线上,通过使电 流从上述铁磁性字线向上述非磁性位线流动,从而使顺自旋从上述铁磁性字线 累积到上述非磁性位线上。

2.根据权利要求1记载的存储元件,其特征是,

由于累积上述逆自旋,上述第二铁磁性层的磁化方向成为与上述铁磁性字 线的磁化方向平行,

由于累积上述顺自旋,上述第二铁磁性层的磁化方向成为与上述铁磁性字 线的磁化方向逆平行。

3.根据权利要求1记载的存储元件,其特征是,

在上述读出动作时,电流在上述非磁性位线和上述布线之间流动。

4.根据权利要求3记载的存储元件,其特征是,

上述磁阻效应元件通过开关元件与源线电连接。

5.根据权利要求4记载的存储元件,其特征是,

上述开关元件是晶体管,

具有:与上述晶体管的栅极电连接的读出字线;

与上述晶体管的漏极电连接的上述源线;

与上述晶体管的源极电连接的上述布线。

6.根据权利要求1记载的存储元件,其特征是,

还具有在上述非磁性位线和上述铁磁性字线之间设置的绝缘层。

7.根据权利要求1记载的存储元件,其特征是,

还具有在上述第二铁磁性层和非磁性位线之间设置的绝缘层。

8.根据权利要求1记载的存储元件,其特征是,

上述磁阻效应元件是CPP-GMR或TMR。

9.一种自旋RAM,其特征是,

具有:第一铁磁性字线,

与上述第一铁磁性字线交叉的第一非磁性位线,

与上述第一铁磁性字线相对的第一布线,

在上述第一铁磁性字线及上述第一非磁性位线的交叉部分和上述第 一布线之间设置的第一磁阻效应元件,

在与同上述第一铁磁性字线的上述第一非磁性位线交叉的面相反一 侧设置的第二布线,

与第一铁磁性字线平行设置的第二铁磁性字线,

与上述第二铁磁性字线交叉的第二非磁性位线,

在上述第二铁磁性字线及上述第二非磁性位线的交叉部分和上述第 二布线之间设置的第二磁阻效应元件;

上述第一磁阻效应元件具有在上述第一布线侧设置的第一铁磁性层,在上 述第一铁磁性字线侧设置的第二铁磁性层,在上述第一铁磁性层和上述第二铁 磁性层之间设置的第一非磁性层;

上述第二磁阻效应元件具有在上述第二布线侧设置的第三铁磁性层,在上 述第二铁磁性字线侧设置的第四铁磁性层,在上述第三铁磁性层和上述第四铁 磁性层之间设置的第二非磁性层;

在写入动作时,通过使电流在上述第一铁磁性字线和第一非磁性位线之间 流动,使自旋从上述第一铁磁性字线累积到上述第一非磁性位线上,从而使上 述第二铁磁性层的磁化方向反转,

通过使电流在上述第二铁磁性字线和第二非磁性位线之间流动,使自旋从 上述第二铁磁性字线累积到上述第二非磁性位线上,从而使第四铁磁性层的磁 化方向反转;

在读出动作时,使电流沿上述第一磁阻效应元件及第二磁阻效应元件的膜 厚方向流动。

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