[发明专利]中空阳极等离子体反应器与方法

权利要求书

1.一种等离子体约束系统，包括：

电气接地；

与所述电气接地连接的等离子体室；

与所述等离子体室连接的真空泵；

与所述等离子体室连接的处理气体源；

第一电极，具有面对所述等离子体室的内部的表面；

第二电极，具有面对所述等离子体室的所述内部的表面，所述表面邻近并基本平行于所述第一电极；

设置在所述第一和第二电极之间的室壳体空间；

靠近所述室壳体空间设置的第二空间，其中所述室壳体空间和所述第二空间通过与所述室壳体空间和所述第二空间均邻近的一侧分隔开；以及

包括所述一侧的容器设备，所述容器设备基本上密封所述室壳体空间并与所述电气接地电气连接，所述一侧包括至少一个允许气体在所述室壳体空间和第二空间之间流动的轨道，所述至少一个轨道用来保持所述室壳体空间和第二空间中的至少一个的压力水平。

2.如权利要求1所述的等离子体约束系统，其中所述至少一个轨道用来使所述室壳体空间和第二空间之间的压力损失最小。

3.如权利要求2所述的等离子体约束系统，其中所述第二空间包括通过真空管与所述真空泵连接的外部室空间，所述真空泵用来从所述等离子约束系统中去除气体。

4.如权利要求1所述的等离子体约束系统，其中所述容器设备包括将电场基本上限定在所述室壳体空间的导电部分。

5.如权利要求1所述的等离子体约束系统，还包括用来将处理气体从所述处理气体源引导至所述室壳体空间的供给线。

6.如权利要求1所述的等离子体约束系统，其中所述至少一个轨道用来均衡所述室壳体空间和第二空间之间的压力。

7.一种等离子体室系统，包括：

处理气体源；

从所述处理气体源接收处理气体的屏蔽；

设置在所述屏蔽内的中间电极空间；

第一电极，具有面对所述中间电极空间的内部的表面

第二电极，具有面对所述中间电极空间的所述内部的表面，所述表面邻近并基本平行于所述第一电极，其中所述中间电极空间设置在所述第一电极和第二电极之间；

与所述中间电极空间邻接的第二空间；以及

在所述屏蔽内、允许气体在所述中间电极空间和第二空间之间流动的至少一个轨道，所述至少一个轨道用来使所述中间电极空间和第二空间之间的压力损失最小。

8.如权利要求7所述的系统，其中所述屏蔽基本上终止了在所述中间电极空间内形成的电场，以防止电场穿过所述第二空间。

9.如权利要求7所述的系统，其中所述屏蔽包括将电场基本上限定在所述中间电极空间的导电部分。

10.如权利要求7所述的系统，其中所述屏蔽由所述第一电极的至少一部分来形成。

11.如权利要求10所述的系统，其中所述第一电极伸入所述中间电极空间。

12.如权利要求7所述的系统，其中所述第二空间包括外部电极空间。

13.如权利要求7所述的系统，还包括去除处理气体的真空泵。

14.如权利要求13所述的系统，还包括连接所述真空泵至所述第二空间的真空管。

15.一种等离子体室设备，包括：

气体源；

第一电极；

邻近并基本上平行于所述第一电极的第二电极；

中间电极空间，位于所述第一电极的内表面和所述第二电极的内表面之间，从所述气体源接收气体；

与所述中间电极空间分隔开但与所述中间电极空间连接的第二空间；

使所述中间电极空间与所述第二空间分隔开的壁，其中所述中间电极空间在所述壁处邻接所述第二空间；

至少一个穿过所述壁的轨道，所述轨道允许气体在所述中间电极空间和第二空间之间流动，所述至少一个轨道用来保持所述中间电极空间或所述第二空间处的压力水平。

16.如权利要求15所述的等离子体室设备，其中所述包括至少一个轨道的壁基本上终止了在所述中间电极空间内形成的电场，防止电场穿过所述第二空间。

17.如权利要求15所述的等离子体室设备，其中所述壁包括围绕所述中间电极空间凸出的第一电极的外缘。