[发明专利]清洗干燥装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种清洗干燥装置。

背景技术

以往，已知有例如日本专利公开公报特开平7-109590号所公开那样的双槽型的真空去脂清洗装置。如图2所示，该清洗装置，在清洗室101的上方设有干燥室102，具有上下两层结构。在该清洗装置中，用储存在清洗室101内的清洗液清洗被清洗物W，然后用升降装置103将被清洗物W送到干燥室102，并使干燥室102内成为真空状态来对被清洗物W进行干燥。此外，考虑到清洗液中的脏污成分会附着在被清洗物W上，该清洗装置在干燥室102中设有喷淋头104，用于在对被清洗物W进行干燥前将清洗液喷淋到被清洗物W上。

另一方面，已知有例如日本专利公开公报特开平6-84872号所公开那样的单槽型的清洗装置。如图3所示，在该清洗装置的清洗槽111中，不仅用清洗液清洗被清洗物W，还用纯水进行清洗(纯水清洗)，然后对被清洗物W进行干燥。此外，在清洗槽111中设有使清洗液循环、用过滤器112去除脏污成分的循环过滤装置113。在用清洗液进行清洗时启动循环过滤装置113，以维持清洗液的清洁度。此外在清洗后，通过排水管114排出脏污的清洗液，并且通过纯水供给线115向清洗槽111供给纯水，一边启动循环过滤装置113一边用纯水对被清洗物W进行清洗。最后，排出纯水，并通过空气供给管116向清洗槽111供给干燥用空气，对被清洗物W进行干燥，结束一系列的清洗步骤。

该日本专利公开公报特开平6-84872号的清洗装置，由于为单槽型，可实现装置的小型化，但在该装置中，为了进行纯水清洗，必须排出(废弃)清洗槽111内的所有清洗液。该清洗装置的清洗对象是在用清洗液清洗后必须进行纯水清洗的被清洗物W，存在每次清洗都要废弃所有清洗液，需要大量清洗液的问题。

另一方面，所述日本专利公开公报特开平7-109590号的清洗装置，由于没有纯水清洗步骤，无须每次废弃清洗液，但因清洗液一直储存在清洗室101内，清洗液会逐渐变脏。因此，存在不得不使用脏污的清洗液来清洗被清洗物W的问题。此外，在该清洗装置中，用喷淋头104洗掉附着在被清洗物W上的脏污，因该清洗步骤，还存在需要额外耗费时间的问题。

发明内容

本发明的目的在于，提供一种对可省略纯水清洗步骤的被清洗物进行清洗、干燥的清洗干燥装置，可以防止清洗时间变长，并可延长清洗液的寿命。

本发明提供一种清洗干燥装置，利用清洗液清洗被清洗物，并对附着在该被清洗物上的清洗液进行干燥，包括：外侧容器；内侧容器，设置在所述外侧容器内，具有用于使所述被清洗物出入的开口部，该内侧容器内储存所述清洗液；减压单元，使所述外侧容器的内部减压，以使附着在所述被清洗物上的清洗液蒸发；净化单元，净化所述清洗液；以及盖体，气密密封所述内侧容器的所述开口部。由此，可以防止清洗时间变长，并可延长清洗液的寿命。

附图说明

图1是表示本发明实施方式的清洗干燥装置的整体结构的概略图。

图2是表示以往清洗干燥装置的结构的图。

图3是表示以往清洗干燥装置的结构的图。

具体实施方式

以下，参照附图对本发明的较佳实施方式进行详细说明。

图1是表示本发明清洗干燥装置的一实施方式的概略图。本实施方式的清洗干燥装置10是用于对半导体或精密机械部件等进行清洗、干燥的装置。如图1所示，清洗干燥装置10包括外壳12，该外壳12内容纳有外侧容器14。

外侧容器14是上侧开放的容器，该外侧容器14具有外盖15。通过该外盖15，可以开闭形成于外侧容器14上侧的外侧开口16，并且，利用该外盖15，可以气密密封外侧开口16。该外侧开口16用于将被清洗物W搬入外侧容器14内。

外侧容器14设有用于使外侧容器14的内部减压的减压单元20。该减压单元20包括吸引路20a和真空泵20b。吸引路20a的一端部与设置于外侧容器14的真空口22相连。吸引路20a设有第一止回阀23、所述真空泵20b和第二止回阀24。通过驱动真空泵20b，可以使外侧容器14内部减压。

吸引路20a的另一端部与气液分离器26相连。该气液分离器26，用于从通过吸引路20a吸引的空气中分离出该空气所含的气化清洗液。气液分离器26设有作为冷凝单元的加压泵28。加压泵28与气液分离器26相连，通过驱动该加压泵28，可对处于减压状态的气液分离器26内进行加压。通过对气液分离器26的内部进行加压，可使气化的清洗液液化。液化后的清洗液被回收到清洗液回收槽30中。