[发明专利]一种基于过渡光贴图的光照和阴影绘制方法无效
申请号: | 200810100857.5 | 申请日: | 2008-02-25 |
公开(公告)号: | CN101271587A | 公开(公告)日: | 2008-09-24 |
发明(设计)人: | 李凤霞;黄天羽;李立杰;陈宇峰;张艳 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学 |
主分类号: | G06T15/50 | 分类号: | G06T15/50;G06T15/60 |
代理公司: | 北京理工大学专利中心 | 代理人: | 张利萍 |
地址: | 100081北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 过渡 贴图 光照 阴影 绘制 方法 | ||
1.一种基于过渡光贴图的光照和阴影绘制方法,包含如下具体步骤:
(1)光照纹理图的计算:通过给定地形高程图、光源以及光照模型,计算环境的光照以及由于遮挡产生的阴影情况,获得带阴影信息的光照纹理图;
(2)阴影函数获取及平滑:通过地形某一点上不同时刻的阴影变化情况获得阴影函数,并对阴影函数进行平滑处理;
(3)阴影区段划分:按照平滑函数的特性,在区段划分数给定的条件下,按照最小误差的原则进行分段线性逼近;
(4)构造阴影过渡图:按照以上的划分,在采样点上根据采样点前后阴影状态的不同,提取不同参数,构造阴影过渡图;
(5)合成纹理光照图:在需要实时计算的时刻,根据所在时间段的关键帧信息以及时间段中的位置信息,插值生成带有阴影信息的纹理光照图。
2.根据权利要求1所述的一种基于过渡光贴图的光照和阴影绘制方法,其特征在于:所述阴影函数的构造方法为:在预处理中,对光源运动位置每个采样点计算阴影状态;对于地形数据中每个采样点,读取光源所有位置采样点的阴影状态,得到阴影时间变化函数:
其中,u,v为像素坐标点,t为采样时刻。
3.根据权利要求1所述的一种基于过渡光贴图的光照和阴影绘制方法,其特征在于:所述阴影函数区段划分以及分段逼近的方法为:一般情况下像素点阴影在某一段采样时间间隔内,随时间变化是连续平滑的,可以用简单的曲线拟合方法来逼近像素阴影的变化规律,以实现不同采样时刻像素阴影的插值;因此可以将像素点阴影的变化情况,划分为尽量少的采样区间,通过平滑曲线进行逼近,将误差控制在允许的范围内;光贴图划分的原则是在所有光贴图中选择少量光贴图关键帧,确定光贴图关键帧位置,使总体转换误差较小,且保证各个光贴图关键帧之间的转换误差率相差不大。
4.根据权利要求1所述的一种基于过渡光贴图的光照和阴影绘制方法,其特征在于:所述合成纹理光照图的方法为:根据关键帧信息以及仿真时刻的信息,通过插值的方法合成带阴影光照纹理图;给定长度为Nf的动态光照纹理图时间序列,通过以上方法划分出n个(n<<Nf)具有代表性的区段,在第i(0≤i≤n,i∈N)个区段起始时刻tsi和结束时刻tei处构造光贴图关键帧Fsi,Fei,这样区间中
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