[发明专利]一种光刻机物镜点光源工作条件下杂光系数测试装置无效
| 申请号： | 200810100859.4 | 申请日： | 2008-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN101271283A | 公开（公告）日： | 2008-09-24 |
| 发明（设计）人： | 赵维谦;周桃庚;张旭升;沙定国;何川;陈凌峰;林家明;邱丽荣;苏大图 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01B11/00 |
| 代理公司： | 北京理工大学专利中心 | 代理人： | 张利萍 |
| 地址： | 100081北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 物镜 光源 工作 条件下 系数 测试 装置 | ||
1.一种光刻机物镜点光源工作条件下杂光系数测试装置，其特征在于：由点光源照明系统(1)、光刻物镜(3)、像方接收系统(11)组成；光刻物镜(3)放置在点光源孔(2)的光路上。
2.根据权利要求1所述的一种光刻机物镜点光源工作条件下杂光系数测试装置，其特征在于：像方接收系统(11)由小孔光阑(4)、中继光学系统(5)、积分球(6)后端的牛角消光管(7)、光电探测器(8)、信号处理系统(9)组成的；点光源照明系统(1)的光线通过光刻机物镜(3)像方上的小孔光阑(4)后的艾里斑像，然后由积分球(6)探测，测得光刻机物镜点光源工作条件下的随照明视场变化的杂光系数。
3.根据权利要求1所述的一种光刻机物镜点光源工作条件下杂光系数测试装置，其特征在于：通过像面平移与转动机构(10)将中继光学系统(5)、积分球(6)移动到某轴外共轭像点位置，并转动一个正对轴外光束主光线的角度后，则可测得光刻物镜该轴外点的杂光系数。
4.根据权利要求1所述的一种光刻机物镜点光源工作条件下杂光系数测试装置，其特征在于：更换牛角消光管(7)为折反观测系统，用来观测调整测量光路，以保证被测光刻物镜的轴上与轴外的物像共轭位置。
5.根据权利要求1所述的一种光刻机物镜点光源工作条件下杂光系数测试装置，其特征在于：点光源照明系统(1)是高辐射强度光源和光源孔组成的点光源。
6.一种光刻机物镜点光源工作条件下杂光系数测试方法，其特征在于：紫外/可见点光源照明系统(1)经点光源孔(2)发出的光线，经光刻物镜(3)和小孔光阑(4)后的艾里斑像，被中继光学系统(5)会聚到积分球(6)后端的牛角消光管(7)内全部吸收，其余杂光均被积分球(6)内表面多次反射后，被光电探测器(8)接收，最后由信号处理系统(9)输出光刻物镜的杂光系数。
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