[发明专利]一种光刻机物镜掩膜照明条件下杂光系数测试装置无效
| 申请号： | 200810100860.7 | 申请日： | 2008-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN101271284A | 公开（公告）日： | 2008-09-24 |
| 发明（设计）人： | 周桃庚;赵维谦;张旭升;沙定国;何川;陈凌峰;林家明;邱丽荣;苏大图 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01M11/02 |
| 代理公司： | 北京理工大学专利中心 | 代理人： | 张利萍 |
| 地址： | 100081北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 物镜 照明 条件下 系数 测试 装置 | ||
1.一种光刻机物镜掩膜照明条件下杂光系数测试装置，其特征在于：由物方发射系统(11)和像方接收系统(12)组成；物方发射系统(11)包括内置在积分球(2)内的光源(1)、放置在积分球(2)出口光路上的掩膜板(3)；像方接收系统(12)包括掩膜板(3)透射光路上的光刻物镜(4)、以及中继光学系统(5)、带牛角消光管(7)、光电探测器(8)的积分球(6)、信号处理系统(9)；在像方积分球(6)端采用带牛角型消光管(7)和光电探测器(8)测量符合光刻机掩膜照明条件下不同视场的杂光系数。
2.根据权利要求1所述的一种光刻机物镜掩膜照明条件下杂光系数测试装置，其特征在于：通过像面平移与转动机构(10)将中继光学系统(5)、积分球(6)移动到某轴外共轭像点位置，并转动一个正对轴外光束主光线的角度后，可测得光刻物镜该轴外点的杂光系数。
3.根据权利要求1所述的一种光刻机物镜掩膜照明条件下杂光系数测试装置，其特征在于：更换牛角消光管(7)为折反观测系统，用来观测调整测量光路，以保证被测光刻物镜的轴上与轴外的物像共轭位置。
4.根据权利要求1所述的一种光刻机物镜掩膜照明条件下杂光系数测试装置，其特征在于：光源(1)是紫外光源或普通照明光源。
5.一种光刻机物镜掩膜照明条件下杂光系数测试方法，其特征在于：照明光源(1)发出光线经积分球(2)内表面多次反射后从积分球开口射出均匀投射到掩膜板(3)上，经掩膜板透射的光线，经光刻物镜(4)的艾里斑像，被中继光学系统(5)会聚到积分球(6)后端的牛角消光管(7)内全部吸收，其余杂光均被积分球(6)内表面多次反射后，被光电探测器(8)接收，最后由信号处理系统(9)输出光刻物镜的轴上点杂光系数。
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