[发明专利]镜头阴影校正系数确定方法、镜头阴影校正方法及装置

权利要求书

1、一种镜头阴影校正系数确定方法，其特征在于，包括：

根据训练图像得到每个像素点的参考校正系数；

由所述参考校正系数生成像素点坐标平面上的二维校正曲面；

采用像素点坐标的二元高次幂多项式拟合所述二维校正曲面；

根据所述多项式计算出与每一像素点坐标对应的镜头阴影校正系数。

2、如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据训练图像得到每个像素点的参考校正系数，包括：

获取训练图像各像素点的标准像素值；以及

获取用镜头拍摄所述训练图像后得到的拍摄图像的各像素点的真实像素值；

计算每个像素点的真实像素值与其标准像素值的比值，得到每个像素点的参考校正系数。

3、如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述采用像素点坐标的二元高次幂多项式拟合所述二维校正曲面，包括：

采用像素点横坐标和纵坐标的2-10次幂多项式拟合所述二维校正曲面。

4、如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述采用像素点坐标的二元高次幂多项式拟合所述二维校正曲面，包括：

采用像素点横坐标和纵坐标的6次幂多项式拟合所述二维校正曲面。

5、一种镜头阴影校正方法，其特征在于，包括：

输入待校正图像；

按像素点坐标顺序获取当前像素点坐标的对应像素点的像素值，以及获取与当前像素点坐标对应的镜头阴影校正系数；其中，所述镜头阴影校正系数的确定方法为：根据训练图像得到每个像素点的参考校正系数，由所述参考校正系数生成像素点坐标平面上的二维校正曲面，采用像素点坐标的二元高次幂多项式拟合所述二维校正曲面，根据所述多项式计算出与每一像素点坐标对应的镜头阴影校正系数；

用获取的所述像素值乘以获取的所述镜头阴影校正系数，得到校正后图像并输出。

6、如权利要求5所述的方法，其特征在于，还包括：预先从计算出的每一像素点坐标对应的镜头阴影校正系数中，按设定的抽取规则抽取部分像素点坐标对应的镜头阴影校正系数并存储；

所述获取与当前像素点坐标对应的镜头阴影校正系数，包括：

根据存储的镜头阴影校正系数以及设定的插值算法，计算出当前像素点坐标对应的镜头阴影校正系数。

7、如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述按设定的抽取规则抽取部分像素点坐标对应的镜头阴影校正系数并存储，包括：每间隔若干个像素点抽取一个像素点坐标对应的镜头阴影校正系数并存储；

所述设定的插值算法为立方体插值算法。

8、一种镜头阴影校正系数确定装置，其特征在于，包括：

参考校正系数获取单元，用于根据训练图像得到每个像素点的参考校正系数并输出；

二维校正曲面生成单元，用于接收所述参考校正系数获取单元输出的所述参考校正系数，生成像素点坐标平面上的二维校正曲面；

拟合单元，用于采用像素点坐标的二元高次幂多项式拟合所述二维校正曲面生成单元生成的二维校正曲面；

镜头阴影校正系数计算单元，用于根据所述拟合单元确定出的多项式，计算出与每一像素点坐标对应的镜头阴影校正系数。

9、如权利要求8所述的装置，其特征在于，所述参考校正系数获取单元，包括：

获取子单元，用于获取一训练图像各像素点的标准像素值，以及用镜头拍摄所述训练图像后得到的拍摄图像的各像素点的真实像素值；

计算子单元，用于计算每个像素点的真实像素值与其标准像素值的比值，得到每个像素点的参考校正系数并输出。