[发明专利]制造产品的方法有效

专利信息
申请号: 200810108427.8 申请日: 2008-05-30
公开(公告)号: CN101314281A 公开(公告)日: 2008-12-03
发明(设计)人: 石原治彦 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: B41J2/175 分类号: B41J2/175
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 柴毅敏
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 制造 产品 方法
【说明书】:

相关申请的交叉引用

本申请基于2007年5月30日提交的日本专利申请No.2007-143508并要求该申请的优先权,这里通过引用的方式并入其全部内容。

技术领域

本发明涉及通过喷射液滴到待涂覆的物体上来制造产品的方法。

背景技术

液滴喷射涂覆器不但在打印图像信息中使用,而且在各种平板显示器(特别是液晶显示器、有机EL(电致发光)显示器、电子发射显示器、等离子显示器、电泳显示器等等)的制造步骤中使用。

液滴喷射涂覆器包括液滴喷射头(如喷墨头),该液滴喷射头通过多个喷嘴将分散液体(如墨水)的液滴喷射到诸如待用液滴涂覆的基体之类的物体上。在这种类型的液滴喷射涂覆器中,来自液滴喷射头的液滴落在待用液滴涂覆的物体上,并形成预定的涂覆图案以制造各种产品。注意,诸如墨水之类的分散液体通过内部流动通路填充到液滴喷射头的多个液体腔中。

通常,液滴喷射头填充装置在用分散液体填充液滴喷射头(即填充液滴喷射头中的空的内部流动通路和液体腔)的初始填充阶段使用。在该初始填充阶段,通过利用水位差(water-head difference)、泵等,这个液滴喷射头填充装置缓慢地输送分散液体到液滴喷射头的内部流动通路和液体腔,使得内部流动通路和液体腔可以被填充而没有气泡残留在内部流动通路和液体腔中。控制这个阶段的流动速率,使得例如可以在约30分钟至60分钟的时间内将10cc分散液体逐渐地填充到液滴喷射头的内部流动通路和液体腔中。

这里使用的分散液体包括多个如作为涂覆材料的间隔体粒子(spacer particle)。这种分散液体通过在分散介质中分散多个粒子而形成。应当注意,间隔体粒子等易于在介质中沉积,致使通过液滴喷射头喷射液滴出现故障。针对这个问题,已经提出一种打印方法以防止间隔体粒子在包括多个间隔体粒子的间隔体分散液体的初始填充后在液滴喷射头中沉积(参见如JP-A No.2006-122814(KOKAI))。在这个打印方法中,间隔体分散液体或者从液滴喷射头排出,或者供应到液滴喷射头并从液滴喷射头排出,液滴喷射头初始填充有间隔体分散液体。这里,这个事件根据已经填充的液滴喷射头是处于打印状态还是处于等待状态执行。

同时,如上所述,分散液体需要缓慢地填充,以防止在初始填充阶段气泡残留。由于分散液体中的粒子很可能在这个填充阶段沉积,因此多个沉积的粒子可能会阻塞液滴喷射头的喷嘴,致使通过液滴喷射头喷射液滴出现故障,例如不喷射液滴。

发明内容

本发明的目的在于提供能够防止气泡残留并也防止由分散液体中的沉积的粒子引起的喷射液滴出现故障的产品制造方法。

本发明的实施方式的一方面提供了一种用于制造产品的方法,所述方法包括:用分散介质填充液滴喷射头的内部流动通路和液体腔,所述液滴喷射头用于喷射通过内部流动通路填充在所述液体腔中的液体的液滴,所述内部流动通路和所述液体腔相互连通;用包含粒子的分散液体填充所述液滴喷射头的所述内部流动通路和所述液体腔,代替所述内部流动通路和所述液体腔中填充的所述分散介质;以及从填充有所述分散液体的所述液滴喷射头将所述分散液体液滴涂覆到待涂覆的物体上。

附图说明

图1是概略视图,示出了根据本发明的第一实施方式的液滴喷射头填充装置的示意性构造;

图2是立体图,示出了安装在图1所示液滴喷射头填充装置中的液滴喷射头的示意性构造;

图3是立体图,示出了根据本发明的第一实施方式的液滴喷射涂覆器的示意性构造;

图4是流程图,示出了用于制造产品的方法中的流程;

图5是概略视图,示出了根据本发明的第二实施方式的液滴喷射涂覆器的示意性构造。

具体实施方式

第一实施方式

下面参考图1至图4描述本发明的第一实施方式。

如图1所示,根据本发明的第一实施方式的液滴喷射头填充装置1包括:供应液体形式的液态分散介质到用于喷射液滴的液滴喷射头2的液体供应器3;以及控制液体供应器3的控制器4。

液滴喷射头2包括:盒状的头本体2a;和设置到头本体2a的喷嘴板2b。作为液滴喷射头2的实施例,使用的是具有压电元件的压电液滴喷射头。

如图2所示,入口H1和出口H2设置在头本体2a的顶表面上。从液体供应器3供应的液体流过入口H1并填充液滴喷射头2。液体通过出口H2从液滴喷射头2排出。这些入口H1和出口H2形成在头本体2a的同一平面上,该平面与设置喷嘴板2b的相对表面M2相对。

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