[发明专利]电阻随机存取存储器装置有效
申请号: | 200810108832.X | 申请日: | 2008-05-29 |
公开(公告)号: | CN101315942A | 公开(公告)日: | 2008-12-03 |
发明(设计)人: | 李昌范;朴永洙;鲜于文旭;姜保守;安承彦 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/24 | 分类号: | H01L27/24;H01L45/00;G11C13/00;G11C11/56;G11C16/02 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人: | 郭鸿禧;罗延红 |
地址: | 韩国京畿道*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 电阻 随机存取存储器 装置 | ||
1.一种电阻随机存取存储器装置,包括:
至少一个第一电极;
至少一个第二电极,与所述至少一个第一电极分开;
第一结构,在所述至少一个第一电极和所述至少一个第二电极之间,第 一结构包括形成在所述至少一个第一电极上的第一电阻改变层、第一中间电 极和第一开关元件,第一中间电极在第一电阻改变层和第一开关元件之间, 并将第一电阻改变层电连接到第一开关元件,
其中,所述至少一个第一电极和所述至少一个第二电极包括具有贵金属 和贱金属的合金层。
2.如权利要求1所述的装置,其中,合金层由二元合金和三元合金组成 的组中的至少一种形成。
3.如权利要求2所述的装置,其中,贵金属为从Pt、Ir、Ru、Pd和Au 中选择的任意一种。
4.如权利要求3所述的装置,其中,合金层为Pt-Ti合金层或Pt-Ni合 金层。
5.如权利要求4所述的装置,其中,在Pt-Ti合金层中,Ti的含量X为 0mol%<X≤40mol%。
6.如权利要求4所述的装置,其中,在Pt-Ni合金层中,Ni的含量Y 为0mol%<Y≤90mol%。
7.如权利要求1所述的装置,其中,第一中间电极包括合金层。
8.如权利要求1所述的装置,其中,第一开关元件为第一氧化物二极管。
9.如权利要求1所述的装置,其中,第一电阻改变层、第一中间电极、 第一开关元件和所述至少一个第二电极顺序形成在所述至少一个第一电极 上。
10.如权利要求1所述的装置,其中,第一开关元件、第一中间电极、 第一电阻改变层和所述至少一个第二电极顺序形成在所述至少一个第一电极 上。
11.如权利要求1所述的装置,其中,所述至少一个第一电极和所述至 少一个第二电极为彼此交叉的多条线,第一结构位于所述至少一个第一电极 和所述至少一个第二电极之间的交叉处。
12.如权利要求1所述的装置,还包括:
至少一个第三电极,与所述至少一个第二电极分开;
第二结构,包括在所述至少一个第二电极和所述至少一个第三电极之间 的第二电阻改变层;
第二开关元件,电连接到第二电阻改变层。
13.如权利要求12所述的装置,其中,所述至少一个第三电极包括合金 层。
14.如权利要求12所述的装置,其中,第二结构包括第二开关元件和在 第二电阻改变层和第二开关元件之间的第二中间电极。
15.如权利要求14所示的装置,其中,第二中间电极包括合金层。
16.如权利要求14所述的装置,其中,第二开关元件为第二氧化物二极 管。
17.如权利要求14所述的装置,其中,第二电阻改变层、第二中间电极、 第二开关元件和所述至少一个第三电极顺序形成在所述至少一个第二电极 上。
18.如权利要求14所述的装置,其中,第二开关元件、第二中间电极、 第二电阻改变层和所述至少一个第三电极顺序形成在所述至少一个第二电极 上。
19.如权利要求14所述的装置,其中,所述至少一个第二电极和所述至 少一个第三电极为彼此交叉的多条线,第二结构位于所述至少一个第二电极 和所述至少一个第三电极之间的交叉处。
20.如权利要求19所述的装置,其中,电阻随机存取存储器装置为具有 一二极管-一电阻器的单元结构的多层交叉点电阻随机存取存储器装置。
21.如权利要求1所述的装置,其中,第一电阻改变层包括可逆地从高 电阻状态转变到低电阻状态或从低电阻状态转变到高电阻状态的元件。
22.如权利要求1所述的装置,其中,第一电阻改变层包括不可逆地从 高电阻状态转变到低电阻状态的元件。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810108832.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:胃肠功能促进剂
- 下一篇:氢G循环旋转内燃发动机
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的