[发明专利]日照控制低辐射涂层

权利要求书

1.具有日照控制低辐射涂层的透明基底，该涂层包含：

包含银的最内层红外反射膜和包含银的最外层红外反射膜；

位于基底和最内层红外反射膜之间的第一介电吸收膜，该第一介 电吸收膜具有在0.52和1.9之间的中性吸收比k_{380＜λ＜450nm}/k_{650＜λ＜760nm}；和

比最外层红外反射膜距离基底更远的第二介电吸收膜，该第二介电吸 收膜具有在0.52和1.9之间的中性吸收比k_{380＜λ＜450nm}/k_{650＜λ＜760nm}。

2.权利要求1的基底，其中所述涂层为在最内层和最外层红外反射膜 之间具有中间涂层的双型低辐射涂层，其中所述中间涂层不包括任何介电 吸收膜，而主要由透明介电膜组成。

3.权利要求1的基底，其中所述涂层是三型低辐射涂层，其还包括包 含银的中间层红外辐射膜，该涂层在最内层和中间层红外反射膜之间具有 第一间隔涂层，在中间层和最外层红外反射膜之间具有第二间隔涂层，其 中所述间隔涂层并不包括任何介电吸收膜，而主要由透明介电膜组成。

4.权利要求1的基底，其中所述第一和第二介电吸收膜都包含氮化物 膜。

5.权利要求1的基底，其中所述第一和第二介电吸收膜中的至少之一 包含氮化物混合物，该氮化物混合物包括氮化硅与另一种氮化物的混合。

6.权利要求1的基底，其中所述第一和第二介电吸收膜都包含氮化物 混合物，该氮化物混合物包括氮化硅和至少一种选自氮化钛、氮化铌、氮 化锆、氮化铬和氮化镍-铬的氮化物的混合。

7.权利要求1的基底，其中所述第一和第二介电吸收膜中的至少之一 包含氮化钛和/或氮化铌。

8.权利要求1的基底，其中所述第一和第二介电吸收膜各具有小于 的光学厚度。

9.权利要求1的基底，其中所述涂覆基底具有小于0.60的单片可见光 透射率。

10.权利要求9的基底，其中所述单片可见光透射率在0.30和0.50之 间。

11.权利要求1的基底，其中所述涂覆基底的单片透射颜色的特征为根 据1931CIE颜色标准的下列色坐标：0.2＜x＜0.35，0.2＜y＜0.35。

12.权利要求1的基底，其中所述透明基底为玻璃板，该玻璃板为多块 隔热玻璃单元的一部分。

13.具有日照控制低辐射涂层的透明基底，该涂层为双型低辐射涂层， 其包含：

包含银的第一红外反射膜和包含银的第二红外反射膜，第一红外反射 膜比第二红外反射膜更接近基底；

位于第一和第二红外反射膜之间的中间涂层，其中该中间涂层不包括 任何介电吸收膜，而主要由透明介电膜组成；

位于基底和第一红外反射膜之间的第一介电吸收膜；并且

第二介电吸收膜比第二红外反射膜距离基底更远，

其中所述第一和第二介电吸收膜中的至少之一具有在0.52和1.9之间 的中性吸收比k_{380＜λ＜450nm}/k_{650＜λ＜760nm}。

14.权利要求13的基底，其中所述第一和第二介电吸收膜都包含氮化 物膜。

15.权利要求13的基底，其中所述第一和第二介电吸收膜中的至少之 一包含氮化物混合物，该氮化物混合物包括氮化硅与另一种氮化物的混合。

16.权利要求13的基底，其中所述第一和第二介电吸收膜包含氮化物 混合物，该氮化物混合物包括氮化硅和至少一种选自氮化钛、氮化铌、氮 化锆、氮化铬和氮化镍-铬的氮化物的混合。

17.权利要求13的基底，其中所述第一和第二介电吸收膜中至少之一 包含氮化钛和/或氮化铌。

18.权利要求13的基底，其中所述第一和第二介电吸收膜各具有小于 的光学厚度。