[发明专利]酚聚合物以及包含该酚聚合物的光刻胶

权利要求书

1、一种包含光活性组分和树脂的光刻胶组合物，所述树脂包含i)一个或多个间隔酚基团和ii)一个或多个光酸不稳定基团。

2、权利要求1的光刻胶，其中所述树脂包含三个或以上不同的重复单元。

3、权利要求1的光刻胶，其中所述树脂包含一个或多个含有下式结构的重复单元：

其中Z为桥单元；X为一个或多个原子；各个R¹为相同的或不同的非氢取代基；以及m是从0至4的整数。

4、权利要求1的光刻胶，其中所述树脂包含下式的结构：

其中各个Z为相同或不同的桥单元；X为一个或多个原子；各个R¹为相同的或不同的非氢取代基；以及m为从0至4的整数；

AL为包含光酸不稳定基团的部分；

Y为与所述间隔酚基团不同的部分或者包含AL的部分；

a、b和c为基于所述聚合物中的总重复单元的各聚合物单元的摩尔百分比，并且a和b各自大于0，c可为0或大于0。

5、权利要求5的光刻胶，其中c大于0。

6、权利要求1的光刻胶，其中所述树脂包含下式的结构：

各个R是相同的或不同的，且为氢或任选取代的烷基；

各个Z为相同或不同的桥单元；

X为一个或多个原子；

各个R¹为相同的或不同的非氢取代基；

m为从0至4的整数；

P为提供光酸不稳定酯的部分；

Y为与所述间隔酚基团不同的部分或者包含P的部分；

a、b和c为基于所述聚合物中的总重复单元的各聚合物单元的摩尔百分比，并且各自大于0。

7、一种形成正性光刻胶浮雕影像的方法，包括：

(a)在基材上施用权利要求1的光刻胶的涂层；以及

(b)将所述光刻胶层曝光并显影从而获得浮雕影像。

8、权利要求8的方法，其中在所述光刻胶浮雕影像形成后将离子施用于所述基材。

9、一种制品，其包含在其上涂有权利要求1的光刻胶组合物的层的微电子晶片基材。

10、一种三元共聚物树脂，其包含i)一个或多个间隔酚基团和ii)一个或多个光酸不稳定基团。