[发明专利]半导体装置的制造方法有效

专利信息
申请号: 200810109439.2 申请日: 2002-04-05
公开(公告)号: CN101303984A 公开(公告)日: 2008-11-12
发明(设计)人: 角义之;内藤孝洋;佐藤俊彦;池上光;菊池隆文 申请(专利权)人: 株式会社瑞萨科技
主分类号: H01L21/50 分类号: H01L21/50;H01L21/60;H01L21/56;H01L21/78
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 郭放
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 半导体 装置 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种半导体装置的制造方法,其特征在于包括下列工序:

(a)制备布线衬底,所述布线衬底具有多个封装衬底形成区 域、在所述多个封装衬底形成区域之间形成的分切线、与所述多个封 装衬底形成区域和所述分切线连续地形成的多个布线、以及分别与所 述多个布线电连接的多个键合焊盘;

(b)在工序(a)之后,切断形成在所述分切线上的所述多个 布线;

(c)在工序(b)之后,在所述多个封装衬底形成区域上方分 别以面朝下方式安装第一和第二半导体芯片,并在所述第一和第二半 导体芯片上安装第三半导体芯片,所述第一~第三半导体芯片的每个 具有主面,在该主面上形成有多个键合焊盘;

(d)在工序(c)之后,利用凸点结合将所述第一和第二半导 体芯片的所述多个键合焊盘与所述多个布线电连接,并利用引线结合 将所述第三半导体芯片的所述多个键合焊盘与所述布线衬底的所述多 个键合焊盘电连接;

(e)在工序(d)之后,用树脂密封所述多个半导体芯片;以 及

(f)在工序(e)之后,使用分切刀片来切割所述分切线。

2.根据权利要求1的半导体装置的制造方法,其特征在于,使 用电解镀法在所述多个布线和所述多个键合焊盘的每个上形成Ni和 Au。

3.根据权利要求1的半导体装置的制造方法,其特征在于:在 工序(b)中,使用刳刨机来切断形成在所述分切线上的所述多个布 线,以形成沟槽。

4.根据权利要求3的半导体装置的制造方法,其特征在于:在 工序(f)中,所述分切刀片的宽度小于所述沟槽的宽度。

5.根据权利要求1的半导体装置的制造方法,其特征在于:在 工序(b)之后且工序(c)之前,对所述多个封装衬底形成区域的每 个进行导通试验。

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