[发明专利]真空设备的基座定位支撑装置有效

专利信息
申请号: 200810109809.2 申请日: 2008-05-30
公开(公告)号: CN101591771A 公开(公告)日: 2009-12-02
发明(设计)人: 杜陈忠;梁沐旺;吴庆辉;江铭通 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: C23C14/50 分类号: C23C14/50;C23C16/44
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 戈 泊
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 真空设备 基座 定位 支撑 装置
【权利要求书】:

1.一种真空设备的基座定位支撑装置,应用于定位支撑基座至真空设备,该基座可于该真空设备的腔体内升降,并且具有用于承载基板的基板承接部以及连接该基板承接部的基座中心轴部,其特征在于,该真空设备的基座定位支撑装置包括:

滑台机构,平行于该镀膜腔体,用于保持该基座中心轴部,且包括平行于该镀膜腔体并具有多个第一穿孔以及一第二穿孔的升降平台,而该第二穿孔供该基座中心轴部穿过;以及

侧向定位支撑机构,包括固定于该滑台机构以自该基座侧面进行夹持定位的多个夹爪组、分别连接各该夹爪组以用于使各该夹爪组同步运动的多个夹爪组驱动件、连接该滑台机构且用于限制各该夹爪组位置使该基座中心线不偏斜的限位件、以及提供各该夹爪组运动的夹爪组运动组件,其中该多个夹爪组是以该升降平台的第二穿孔的中心线为对称轴心而设置。

2.根据权利要求1所述的真空设备的基座定位支撑装置,其特征在于,该滑台机构包括:

线性轴承,套设于各该第一穿孔;

导柱,结合该线性轴承并固定至该镀膜腔体,从而用以导引该升降平台相对于该镀膜腔体而平行地升降;以及

升降致动器,用以致动该升降平台。

3.根据权利要求2所述的真空设备的基座定位支撑装置,其特征在于:该升降平台的上表面与该镀膜腔体的下表面之间固设有第一挠性密封件,该第二穿孔中设有一密封件,该夹爪组与该镀膜腔体的下表面之间则设有第二挠性密封件。

4.根据权利要求2所述的真空设备的基座定位支撑装置,其特征在于:该升降致动器包括连接该升降平台的导螺杆。

5.根据权利要求1所述的真空设备的基座定位支撑装置,其特征在于:该夹爪组包括用于接触该基板承接部侧边的夹爪爪部、一端连接该夹爪爪部的夹爪本体、以及设于该夹爪本体的连接件。

6.根据权利要求5所述的真空设备的基座定位支撑装置,其特征在于:该夹爪爪部与该基板承接部侧边包括对应的凸部与凹部。

7.根据权利要求6所述的真空设备的基座定位支撑装置,其特征在于:该凸部的凸出长度大于该凹部的凹设深度。

8.根据权利要求5所述的真空设备的基座定位支撑装置,其特征在于:该基板承接部的侧边设置定位件,该定位件与该夹爪爪部具有对应的凸部与凹部。

9.根据权利要求1所述的真空设备的基座定位支撑装置,其特征在于:该夹爪组驱动件包括气压缸以及结合至该气压缸的滑套。

10.根据权利要求1所述的真空设备的基座定位支撑装置,其特征在于:该夹爪组运动组件包括连接该夹爪组的滑块以及设于该滑台机构以供该滑块自如滑动的滑轨。

11.根据权利要求1所述的真空设备的基座定位支撑装置,其特征在于:该夹爪组运动组件包括定位该夹爪组至该滑台机构的转轴。

12.根据权利要求1所述的真空设备的基座定位支撑装置,其特征在于:该限位件为垂直于该滑台机构的限位块,并且位于该夹爪组驱动件的另一端。

13.根据权利要求1所述的真空设备的基座定位支撑装置,其特征在于:还包括连接该夹爪组驱动件以用于表示该基座位置的基座位置指示件。

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