[发明专利]清洗方法及清洗机台有效
申请号: | 200810113695.9 | 申请日: | 2008-05-29 |
公开(公告)号: | CN101592875A | 公开(公告)日: | 2009-12-02 |
发明(设计)人: | 刘佑铭;何永根 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42;H01L21/311 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 李 丽 |
地址: | 100176北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 清洗 方法 机台 | ||
1.一种清洗方法,包括,配制包含清洗溶液和氧化溶液的混合溶 液;利用所述混合溶液对运行于清洗机台中的基底执行清洗操作,其特 征在于:所述混合溶液的配置过程是利用所述清洗机台在所述基底的运 行过程中完成的,且配制所述混合溶液时放出热量;所述清洗溶液包含 硫酸和双氧水,所述氧化溶液包含臭氧的水溶液;
所述清洗机台包括:承载台、液体管路和混合装置,流经所述液体 管路的清洗溶液和氧化溶液清洗位于所述承载台上的所述基底;所述液 体管路包括至少两个入口和至少一个出口,所述清洗溶液和氧化溶液经 由不同入口进入所述液体管路;所述出口与所述混合装置连通。
2.一种清洗机台,包括,承载台和液体管路,流经所述液体管路 的清洗溶液和氧化溶液清洗位于所述承载台上的基底;其特征在于:所 述液体管路包括至少两个入口和至少一个出口,所述清洗溶液和氧化溶 液经由不同入口进入所述液体管路;所述清洗机台还包括混合装置,所 述出口与所述混合装置连通;所述清洗溶液包含硫酸和双氧水,所述氧 化溶液包含臭氧的水溶液。
3.根据权利要求2所述的清洗机台,其特征在于:所述清洗机台 还包括氧化气体发生装置和气体管路,所述气体管路的一端与所述发生 装置连通,所述气体管路的另一端与所述液体管路或混合装置连通;生 成的氧化气体经由所述气体管路溶入所述清洗溶液及/或水溶液。
4.根据权利要求3所述的清洗机台,其特征在于:所述氧化气体 发生装置为臭氧发生器。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(北京)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(北京)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810113695.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种PTC/NTC电热体的温度控制装置
- 下一篇:液晶显示器及其显示方法