[发明专利]一种利用AAO模板制作光波段人工复合结构材料

权利要求书

1、一种利用AAO模板制作光波段人工复合结构材料，其特征在于包括以下步骤：

(1)选择硅基片，并将其表面抛光；然后在其表面溅射沉积一层厚度在微米量级的高纯铝膜；

(2)在高纯铝膜表面采用电化学二步阳极氧化方法，制备出厚度＜1微米的多孔氧化铝模板；同时，通过调节电解溶液的种类、浓度、电压以及电解时间等工艺条件得到结构参数不同的单通道的纳米孔阵列AAO模板；

(3)采用侧向真空沉积技术在单通道的纳米孔阵列AAO模板上沉积一层厚度在10～30纳米的金属膜层；

(4)选择一块合适大小的光学材料基底，将纳米孔阵列AAO模板沉积有金属膜层的一面与光学材料基底表面连接在一起；

(5)去除硅基片；

(6)对背面的金属铝膜层和氧化铝阻挡层进行腐蚀，形成孔道阵列双通形式的AAO模板；

(7)采用侧向真空沉积技术，再次在AAO模板的另一侧沉积厚度10～30纳米的金属膜层，一种利用AAO模板制作的光波段人工复合结构材料制作完成。

2、根据权利要求1所述的一种利用AAO模板制作光波段人工复合结构材料，其特征在于：所述步骤(2)中的电解溶液可以为草酸或硫酸。

3、根据权利要求1所述的一种利用AAO模板制作光波段人工复合结构材料，其特征在于：所述步骤(3)中的金属膜层的材料可以是铜、或银、或金。

4、根据权利要求1所述的一种利用AAO模板制作光波段人工复合结构材料，其特征在于：所述步骤(4)中所选择的光学材料基底可以是石英、或者光学玻璃材料。

5、根据权利要求1所述的一种利用AAO模板制作光波段人工复合结构材料，其特征在于：所述步骤(4)中是通过采用键合技术或PMMA胶粘接将纳米孔阵列AAO模板与光学材料基底表面连接在一起。

6、根据权利要求1所述的一种利用AAO模板制作光波段人工复合结构材料，其特征在于：所述步骤(5)中利用HF溶液湿法腐蚀或RIE干法刻蚀去除硅基片。

7、根据权利要求1所述的一种利用AAO模板制作光波段人工复合结构材料，其特征在于：所述步骤(6)中对金属铝膜层所选择的腐蚀液为CuCl₂溶液或FeCl₃溶液，对氧化铝阻挡层所选择的腐蚀液为磷酸溶液。

8、根据权利要求1所述的一种利用AAO模板制作光波段人工复合结构材料，其特征在于：所述步骤(6)中对金属铝膜层的腐蚀中，避免腐蚀液与步骤(3)所沉积的金属膜层相接触。

9、根据权利要求1所述的一种利用AAO模板制作光波段人工复合结构材料，其特征在于：所述步骤(6)中对金属铝膜层的的腐蚀过程中，腐蚀时间一般控制在5分钟到10分钟。