[发明专利]GaAs基E/D PHEMT单片集成微波开关及其制作方法有效

专利信息
申请号: 200810115564.4 申请日: 2008-06-25
公开(公告)号: CN101615708A 公开(公告)日: 2009-12-30
发明(设计)人: 黎明;张海英;付晓君;徐静波 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01P1/15 分类号: H01P1/15;H01P1/10;H01P11/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 周国城
地址: 100029*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: gaas phemt 单片 集成 微波 开关 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种GaAs基E/D PHEMT单片集成微波开关,其特征在于,该单 片集成微波开关由基于全耗尽型的GaAs PHEMT单刀双掷开关和基于 DCFL的反相器构成,该单刀双掷开关和反相器单片集成,单刀双掷开关 的控制信号端与反相器的输入端和输出端连接,且该单片集成微波开关采 用0V和-3V分别作为高低电平,反相器的VDD直流端接0V,原接地端 接-3V;其中,该单片集成微波开关为基本的单刀双掷结构,通过高阻值 金属膜电阻为HEMT源漏端提供高电平,该单片集成微波开关的HEMT 栅极偏置电阻与反相器的输出端连接。

2.根据权利要求1所述的GaAs基E/D PHEMT单片集成微波开关, 其特征在于,该单片集成微波开关外加控制信号被反相器的反相,当外加 信号为高电平时,开关HEMT栅极为低电平,开关处于断开状态;当外加 信号为低电平时,开关HEMT栅极为高电平,开关处于闭合状态。

3.根据权利要求1所述的GaAs基E/D PHEMT单片集成微波开关, 其特征在于,该基于全耗尽型的GaAs PHEMT单刀双掷开关和基于DCFL 的反相器,基于E/D PHEMT材料和工艺实现。

4.根据权利要求1所述的GaAs基E/D PHEMT单片集成微波开关, 其特征在于,该基于全耗尽型的GaAs PHEMT单刀双掷开关的控制信号 端与该反相器的输入端和输出端在芯片上实现连接。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所,未经中国科学院微电子研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810115564.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top