[发明专利]含有环己烷甲基醇结构液晶材料中间体的合成方法无效
申请号: | 200810116912.X | 申请日: | 2008-07-18 |
公开(公告)号: | CN101607868A | 公开(公告)日: | 2009-12-23 |
发明(设计)人: | 姜天孟;杭德余;陈海光;田会强;储士红;刘俊;张嫣然 | 申请(专利权)人: | 北京八亿时空液晶材料科技有限公司 |
主分类号: | C07C29/147 | 分类号: | C07C29/147;C07C31/135 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王朋飞 |
地址: | 100085北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 含有 环己烷 甲基 结构 液晶 材料 中间体 合成 方法 | ||
技术领域
本发明涉及化合物的合成方法,具体地说是一类含有环己烷甲基 醇结构液晶材料中间体的合成方法,该化合物是乙烷类和乙烯液晶材 料合成中的重要中间体,主要用于液晶显示。
技术背景
自二十世纪七十年代以来,随着液晶光学、液晶化学,及大规 模集成电路和液晶材料的发展,液晶在显示方面的应用取得了突飞猛 进的发展,先后经历了TN-LCD、STN-LCD、TFT-LCD三个阶段。 其典型应用有手表、计算器、仪器仪表,以及后来的MP3、MP4,现 在在液晶电视大规模应用。液晶显示具有平板化、重量轻、低能耗、 低辐射等优点,并且加工工艺不断完善、成本不断降低,其普及率迅 速提高。
用于液晶显示的液晶材料需要具有以下特点:
1.宽的向列相温度(特别是具有高、低温性能);
2.一定的光学、电学各向异性;
3.比较好的化学稳定性、热稳定性和光稳定性(特别是UV照 射下);
4.低粘度;
5.电阻率高,较好的电荷保持率;
6.较好的溶解性。
在实际应用中一种化合物完全符合显示要求可能性几乎为零,通 常用几种化合物混合后形成组合物来实现。
乙烷类液晶具有粘度低、稳定性高、与其他液晶相容性好,尤其 是化学稳定性和抗紫外辐射性能好。是矩阵高档多路驱动显示器件的 必要组分,如TFT-LCD混合液晶。乙烯类液晶由于具有高的K33/k11值,因此广泛应用于STN-LCD混合液晶中。
本发明涉及的液晶材料中间体的结构式为:
其中,R为饱和烷基或饱和烷基环己基。
由酸直接制备醇的还原方法较多,但其条件苛刻,成本较高。如 J.O.C vol44:2180和Org Syn Coll Vol2:372中报道的利用碱金属在液氨 中进行还原,该方法操作条件苛刻;J.A.C.S.Vol69:1197和Org Syn Vol63:140报导选用四氢锂铝作催化剂还原,该方法四氢锂铝操作危 险性大,不宜大规模工业化生产;在J.O.C vol47:4702、vol56:4706 和J.A.C.S.Vol111:3382均报导选用硼氢化锂作为催化剂还原,该方法 硼氢化锂价格较贵,成本价高。
发明内容
本发明的目的在于针对上述不足提供一种合成含有环己烷甲基 醇结构液晶材料中间体的合成方法。该方法能够增强合成所述液晶化 合物的工业化生产可行性,降低危险性和成本。
本发明首先将酸转化为酯,再还原得到醇,其合成路线如下:
其中,R为饱和烷基或饱和烷基环己基,优选为含有1-15个碳 原子的饱和烷基或饱和烷基环己基,R’为饱和烷基,优选为含有1-15 个碳原子的饱和烷基。
通过将式(I)化合物与醇进行酯化反应得到式(II)化合物,为 第二步反应做准备。这里的酯化反应可按照本领域技术人员所熟知的 常规方法进行。
本发明对合成路线步骤(2)进行了优化。本发明采用硼氢化钾 和无水氯化锂组成的复合物作为式(II)化合物还原反应的还原剂, 其中硼氢化钾与无水氯化锂按摩尔比为1∶0.8~2,优选为1∶0.9~1.2,更 优选为1∶1。还原剂添加的量应当与式(II)化合物的量相适应,按照 硼氢化钾与式(II)化合物的摩尔比为1.5~3∶1,优选为1.7~2.5∶1,更 优选为2∶1。
本领域技术人员应当理解上述反应在适当的溶剂中进行,例如四 氢呋喃、无水乙醇,或者是他们的任意比混合物,反应温度为溶剂的 回流温度。
本发明摒弃了传统由酸(式(I)化合物)直接制备醇(式(III) 化合物)的方法,而采用将酸(式(I)化合物)转化成酯(式(II) 化合物),再加氢还原成醇(式(III)化合物),这样避免了传统方法 苛刻的条件以及危险性。本发明还选用价格低廉的硼氢化钾和无水氯 化锂作为式(II)化合物的还原剂来完成合成含有环己烷甲基醇结构 液晶材料中间体的第二步,该还原剂易于保存,投料方法简单,反应 的收率较为理想,成本低,操作安全。
具体实施方式
以下实施例进一步说明本发明的内容,但不应理解为对本发明的 限制。在不背离本发明精神和实质的情况下,对本发明方法、步骤或 条件所作的修改或替换,均属于本发明的范围。
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