[发明专利]一种消相干和匀场装置

权利要求书

1.一种用于激光光束的消相干匀场装置，包括，

漫反射板，具有漫反射面，所述漫反射面用于接收并漫反射所述激光光束以得到多束散射激光；

全反射腔，用于在其内壁全反射所述散射激光并产生定向输出的出射光束，其中，所述全反射腔具有相对的两端，所述漫反射板设置在所述全反射腔的一端并覆盖所述端，其漫反射面朝向全反射腔；

匀化透镜，所述匀化透镜设置在所述出射光束的光路中，以使得所述出射光束在到达目标区域时照度均匀分布。

2.如权利要求1所述的用于激光光束的消相干匀场装置，其中还包括光束引导装置，用于将所述激光光束导向所述漫反射板。

3.如权利要求1或2所述的用于激光光束的消相干匀场装置，其中，还包括偏振透射元件，所述偏振透射元件仅允许所述定向输出的出射光束中沿某方向偏振的光束透过。

4.如权利要求1-3之一所述的用于激光光束的消相干匀场装置，其中，还包括电机，所述电机用于驱动所述漫反射板在自身平面内发生使得所述激光光束在所述漫反射板上的入射点时刻变换的转动。

5.如权利要求1-3之一所述的用于激光光束的消相干匀场装置，其中，还包括电机，所述电机用于驱动所述光束引导装置发生使得所述激光光束在所述漫反射板上的入射点时刻变换的转动或振动。

6.如权利要求1-5之一所述的用于激光光束的消相干匀场装置，其中，所述匀化透镜为自由曲面透镜或中继透镜组。

7.如权利要求1-6之一所述的用于激光光束的消相干匀场装置，其中所述漫反射板的漫反射面涂覆有高反射率的漫反射材料BaSO₄或CaSO₄，或者所述漫反射板由具有粗糙漫反射面的高反射率陶瓷制成。

8.如权利要求2-7之一所述的用于激光光束的消相干匀场装置，其中，所述光束引导装置为带孔全反射镜或局部反射镜或仅允许以45°入射的光束透过的镀制特殊膜的玻璃板。

9.如权利要求1-8之一所述的用于激光光束的消相干匀场装置，其中，所述全反射腔为轴对称结构或旋转对称结构。

10.如权利要求9所述的用于激光光束的消相干匀场装置，其中，所述全反射腔形状为CPC形或棱台形或棱柱形。

11.如权利要求1-10之一所述的用于激光光束的消相干匀场装置，其中，所述全反射腔为中空腔体，所述中空腔体的内壁镀有针对所述激光光束的全反膜。

12.如权利要求1-10之一所述的用于激光光束的消相干匀场装置，其中，所述全反射腔为由均匀透光物质制成的实心体，所述实心体的两端面镀有针对所述激光光束的增透膜，外壁抛光并镀制或不镀制针对所述激光光束的全反膜。

13.一种采用权利要求1-12之一所述的用于激光光束的消相干匀场装置的激光显示系统。