[发明专利]低熔点玻璃制备窑炉

说明书

技术领域

本发明涉及玻璃制备技术领域，特别是涉及一种低熔点玻璃制备窑炉。

背景技术

低熔点玻璃，如：高铅玻璃、无铅低熔点玻璃等，由于熔点较低，在封装、焊接等领域中有着广泛的用途。但由于高温下低熔点玻璃液具有较强的腐蚀性，采用普通浮法玻璃的窑炉无法满足高铅玻璃的制备要求。

在高铅玻璃的制备过程中，可采用可抗高铅玻璃液腐蚀的贵金属铂金制备炉体，如采用铂金制备马弗炉、进料口、出料口等。图1为现有技术采用铂金马弗炉的全电熔玻璃窑炉结构示意图。如图1所示，现有技术中，全电熔玻璃熔窑采用封闭马弗炉窑11；马弗炉窑11内设置有由铂金炉胆12。玻璃生料通过铂金进料口13投放到铂金炉胆12中。窑池11的侧壁设有硅碳棒14，硅碳棒14通电发热后对铂金炉胆12进行加热；处理后的玻璃液可通过铂金出料口15导出铂金炉胆12。如图1所示的全电熔玻璃窑炉采用铂金材料制备的炉体，在一定程度上可降低高铅玻璃液的腐蚀，但铂金昂贵，成本很高；并且高温玻璃液在对铂金炉胆21的冲刷过程中，还是会引入部分杂质，影响高铅玻璃的制备纯度。

而在无铅低熔点玻璃制备过程中，无铅低熔点玻璃液对铂金具有较强的腐蚀性，不能采用铂金制备炉体，此时，需开发新的能够抵抗无铅低熔点玻璃液腐蚀的耐蚀性材料，因此，材料的开发成本较高。

通过上述分析可知，现有技术在制备低熔点玻璃过程中存在着制备成本高等技术缺陷。

发明内容

本发明的目的是提供一种低熔点玻璃制备窑炉，用以降低低熔点玻璃制备成本，提高低熔点玻璃纯度。

为实现上述目的，本发明提供了一种低熔点玻璃制备窑炉，包括炉池，所述炉池顶部设有盖板，所述盖板中部设有与所述炉池导通连接的进料口，所述进料口周围部设有位于所述盖板上方的热源，所述热源覆盖面积小于所述炉池水平横截面面积的1/8；与所述进料口相对的所述炉池底部位置设有与所述炉池导通连接的出料口。

在上述技术方案的基础上，所述炉池外壁与循环制冷装置连接；所述循环制冷装置为循环水冷装置或循环风冷装置。

在上述技术方案的基础上，所述进料口与所述热源之间设有第一隔热板。所述第一隔热板可为铂金或采用高耐腐蚀性耐火材料制成的高耐腐蚀性耐火隔热板。所述热源的底面与所述盖板连接，且所述热源的上方和外侧面均围设有第二隔热板。所述第一隔热板或第二隔热板可为高硅酸铝纤维板。其中，所述热源可为电热丝、硅碳棒、硅钼棒或火焰喷枪。所述出料口露出所述炉池的一端连接有吸管，所述吸管与高压空气及真空装置连接，所述高压空气填充在所述吸管内或所述吸管与所述真空装置的连接处；优选的，所述吸管为橡胶管。

本发明提供的低熔点玻璃制备窑炉，通过在炉池顶部设置热源，该热源覆盖面积小于炉池水平横截面面积的1/8，热源局部加热炉池，使得炉池内外形成温度分布梯度，在炉池内壁形成玻璃液的固态本体，通过玻璃液的固态本体阻止高温玻璃液与炉池内壁的直接接触，有效避免了高温玻璃液对炉池的腐蚀，延长炉池使用寿命，明显降低了低熔点玻璃的制备成本；同时，由于采用玻璃液的固态本体抗腐蚀，因此在低熔点玻璃制备过程中不会引入其他杂质，有利于提高所制备的低熔点玻璃的纯度。

下面通过附图和实施例，对本发明的技术方案做进一步的详细描述。

附图说明

图1为现有技术采用铂金马弗炉的全电熔玻璃窑炉结构示意图；

图2为本发明低熔点玻璃制备窑炉实施例结构示意图；

图3为本发明低熔点玻璃制备窑炉实施例俯视图。

附图标记说明：

21-炉池；        22-盖板；    23-进料口；

24-热源；        25-出料口；  26-第一隔热板；

27-循环制冷装置；28-吸管；    29-真空装置；

210-第二隔热板。

具体实施方式

图2为本发明低熔点玻璃制备窑炉实施例结构示意图。如图2所示，本发明低熔点玻璃制备窑炉包括炉池21、盖板22、进料口23、热源24和出料口25。炉池21顶部设有盖板22。盖板22中部设有进料口23，进料口23与炉池21导通连接，用于向炉池21中添加生料。炉池21底部设有出料口25，该出料口25与炉池21导通连接，并且出料口25与进料口23的位置相对，即出料口25的竖线轴线与进料口23的竖向轴线位于同一竖向轴线上。盖板22的上方与炉池21中部相应位置设有热源24，热源24沿进料口23周围布设，该热源24的覆盖面积小于炉池21水平横截面面积，优选的，热源24的覆盖面积小于炉池水平横截面面积的1/8。