[发明专利]高阻抗应变传感器无效

专利信息
申请号: 200810119208.X 申请日: 2008-08-29
公开(公告)号: CN101363708A 公开(公告)日: 2009-02-11
发明(设计)人: 姚军;吴飒;袁宏杰;谢汉兴;李德峰;袁虹 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: G01B7/16 分类号: G01B7/16
代理公司: 北京慧泉知识产权代理有限公司 代理人: 王顺荣;唐爱华
地址: 100191北京市海*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 阻抗 应变 传感器
【权利要求书】:

1.一种高阻抗应变传感器,是由压电陶瓷、线性运算放大器、电阻及负反馈电阻组成;其特 征是:该压电陶瓷通过一个电阻接入线性运算放大器的负输入端,并且在线性运算放大器的 负输入端和输出端之间连接一个负反馈电阻;

如何构造高阻抗应变传感器,如下所述:

设压电陶瓷的极间通过电阻R构成回路;由第四类压电方程

T1T2E3=Ep1-μp2+ep2ϵpSμpEp1-μp2+ep2ϵpS-hpμpEp1-μp2+ep2ϵpSEp1-μp2+ep2ϵpS-hp-hp-hp1ϵpSS1S2D3---(15)]]>

得到,其中,Ep与μp分别为弹性模量与泊松比,T1,T2分别为压电状态下的x,y轴方向的 应力,压电陶瓷内场强为:

E3(t)=-hp(S1(t)+S2(t))+D3(t)/ϵpS---(25)]]>

其中,为压电片在夹持条件下的介电常数;

输出电压为:

up(t)=δpE3(t)=-δphp(S1(t)+S2(t))+(δp/ϵpS)D3(t)---(26)]]>

其中δp为压电陶瓷厚度;单位面积压电陶瓷提供的电流为:

i(t)=-D·3(t)=up(t)R=-δphpR(S1(t)+S2(t))+δpϵpSRD3(t)---(27)]]>

从中可得关于电位移D3(t)的一阶微分方程:

RϵpSδpD·3(t)+D3(t)=ϵpShp(S1(t)+S2(t))---(28)]]>

在频域内的解为:

D3()=hpϵpS1+RϵpSδp(S1()+S2())---(29)]]>

其中,一个变量在时域t,频域ω或拉氏域s内将采用同一符号;

将方程(29)代回方程(27),得到:

i()=-D3()=-hpϵpS1+RϵpSδp(S1()+S2())---(30)]]>

考虑特例,若R很大,则在频域内有:

ωRϵpSδp>>1---(31)]]>

方程(30),将为:

i()-δphpR(S1()+S2())---(32)]]>

i(t)-δphpR(S1(t)+S2(t))]]>

压电陶瓷提供的电流与其沿1和2轴的正应变之和成正比,其中1轴和2轴分别对应从力学 角度分析压电片的x轴和y轴;

方程(30)或(32)构成了压电陶瓷用作高阻抗应变传感器的基础;

设把压电陶瓷“理想”地粘贴到一个结构上——所谓“理想地粘贴”是指压电陶瓷粘贴 面处的应变与结构的当地应变相同;又设压电陶瓷很薄,忽略其应变沿厚度的变化,这样, 压电陶瓷平面域内的应变S1和S2分别与结构的当地应变εx和εy一致

S1(x,y,t)=εx(x,y,t)  S2(x,y,t)=εy(x,y,t)    (33)

压电陶瓷经一个很大电阻接入线性运算放大器的负输入端相连接,在线性运算放大器的 负输入端和输出端之间连接一个负反馈电阻;

在方程(31)下,运放输出电压为:

us(t)=-RfΩsi(x,y,t)dxdy]]>

=δphpRfRΩs(ϵx(x,y,t)+ϵy(x,y,t))dxdy(ωRϵpSδp>>1)---(34)]]>

其中Rf为反馈电阻,Ωs为压电陶瓷遍及的结构区域,它表明:压电陶瓷——运放组合作为 结构的“应变传感器”,输出电压正比于结构的当地正应变之和的积分,当压电陶瓷面积足 够小时,将趋于直接正比于当地正应变之和;

对于一维应力结构,当T2(x,t)=σy(x,t)=0时,其中σy(x,t)为力学角度下y轴方向的应 变,相应于方程(34)应变传感器输出为:

us(t)bpδphpRfRΩsϵx(x,t)dx---(35)]]>

其中bp为压电陶瓷宽度;注意其中的压电常数ep和hp由方程(21-24)确定,方程(21-24) 的表达式如下:

ep=Epdp    (21)

gp=dp/ϵpT---(22)]]>

hp=ep/ϵpS=EpdpϵpS---(23)]]>

ϵpS=ϵpT-epdp=ϵpT-Epdp2---(24)]]>

其中,是力学自由条件下的介电系数,dp为所选压电陶瓷的压电常数;

至此,组建完成了高阻抗应变传感器。

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