[发明专利]一种用于浸没式光刻机的浸没控制装置

权利要求书

1.一种用于浸没式光刻机的浸没控制装置，是在投影透镜组(1)和硅片(3)之间设置的浸没控制装置(2)，其特征在于：所述的浸没控制装置(2)由主体结构(4)和随动密封结构(5)两部分组成；其中：

1)主体结构(4)：为圆柱体，由圆心到圆周依次开有镜头孔(4A)、相对于圆心对称分布的弧形注液腔(4B)与弧形回收腔(4C)、气液混合回收腔(4D)、密封腔体(4E)和导线管路(4F)；锥形的镜头孔(4A)与投影透镜组(1)为过盈配合；注液腔(4B)与回收腔(4C)上部分为一组等分弧形小通孔，气液混合回收腔(4D)上部分开有等圆周分布的通孔，气液混合回收腔(4D)下部分开有多排、多个等圆周分布的小通孔，密封腔体(4E)上部分为等圆周分布的四组弧形小通孔；

2)随动密封结构(5)：包括随动环(5A)、八个联接部件(5B)、四块形变块(5C)和二个密封环(5D)；随动密封结构(5)置于主体结构(4)的密封腔体(4E)内，随动密封结构(5)径向方向上由内向外构件排列为随动环(5A)、四块等圆周分布置的形变块(5C)；形变块(5C)上下端分别设有密封环(5D)，上下密封环(5D)与主体结构(4)之间固接，八个联接部件(5B)分两组与形变块(5C)的上下两端通过双头螺拴连接，形变块(5C)与主体结构(4)之间为粘接或螺栓联接。

2.根据权利要求1所述的一种用于浸没式光刻机的浸没控制装置，其特征在于：所述形变块(5C)的截面形状为外表面为圆柱面的一部分，直径与密封腔体(4E)的外圆周直径相等，两侧面及内表面为平面。

3.根据权利要求1所述的一种用于浸没式光刻机的浸没控制装置，其特征在于：所述形变块(5C)的截面形状为外表面为圆柱面的一部分，直径与密封腔体(4E)的外圆周直径相等，内表面为平面。

4.根据权利要求1所述的一种用于浸没式光刻机的浸没控制装置，其特征在于：所述形变块(5C)的截面形状为外表面与内表面均为圆柱面的一部分，其中外表面直径与密封腔体(4E)的外圆周直径相等。