[发明专利]硅片清洗剂及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200810123225.0 申请日: 2008-06-13
公开(公告)号: CN101314750A 公开(公告)日: 2008-12-03
发明(设计)人: 唐玉冰 申请(专利权)人: 唐玉冰
主分类号: C11D1/83 分类号: C11D1/83;C11D3/06
代理公司: 扬州市锦江专利事务所 代理人: 江平
地址: 211409江苏省仪征市大仪*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 硅片 洗剂 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1、硅片清洗剂,其特征在于由椰子油烷基醇酰胺磷酸酯、辛烷基苯酚聚氧乙烯醚、焦磷酸钾、硼酸钠、氢氧化钾和水组成。

2、根据权利要求1所述硅片清洗剂,其特征在于所述椰子油烷基醇酰胺磷酸酯、辛烷基苯酚聚氧乙烯醚、焦磷酸钾、硼酸钠、氢氧化钾分别占部重量的4~6%、3~5%、3~5%、1~2%、1~2%。

3、一种如权利要求1所述硅片清洗剂的制备方法,其特征在于包括以下步骤:

1)将硼酸钠和焦磷酸钾混合溶于水中;

2)将氢氧化钾溶于水中;

3)分别将椰子油烷基醇酰胺磷酸酯、辛烷基苯酚聚氧乙烯醚溶于水中,再将两溶液均匀混合;

4)将以上三种溶液均匀混合,即成硅片清洗剂。

4、根据权利要求3所述硅片清洗剂的制备方法,其特征在于用于溶解硼酸钠和焦磷酸钾的水温为60~80℃。

5、根据权利要求3所述硅片清洗剂的制备方法,其特征在于用于溶解氢氧化钾的水为常温。

6、根据权利要求3所述硅片清洗剂的制备方法,其特征在于用于溶解椰子油烷基醇酰胺磷酸酯和辛烷基苯酚聚氧乙烯醚水为常温。

7、根据权利要求3所述硅片清洗剂的制备方法,其特征在于步骤4)的混合温度为常温。

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