[发明专利]观察电化学法生长纳米材料的装置及其控制方法无效

专利信息
申请号: 200810123820.4 申请日: 2008-06-05
公开(公告)号: CN101597785A 公开(公告)日: 2009-12-09
发明(设计)人: 刘广强;蔡伟平;张卓 申请(专利权)人: 中国科学院合肥物质科学研究院
主分类号: C25D21/12 分类号: C25D21/12
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 230031*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 观察 电化学 生长 纳米 材料 装置 及其 控制 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种观察装置及控制方法,尤其是一种观察电化学法生长纳米材料的装置及其控制方法。

背景技术

贵金属具有很好的生物相容性,对蛋白质有着很强的吸附功能,在生物医学、诊断等方面得到了广泛的应用。氧化锌是一种新型的II~VI族直接宽带隙化合物半导体材料,具有优异的光学和电学特性,可用于光通信网络、光电显示、光电储存、光电转化和光电探测等领域。研究证实,当贵金属和氧化锌的尺寸为纳米级时,其功能和特性将有较大的变化和很大的提升。为此,贵金属之一的银纳米结构和氧化锌纳米结构的科学研究一直是目前的热点。

在研究用不同的合成方法生长纳米片的机理时,往往需要观察纳米结构的生长过程,即观察不同反应阶段产物的形貌。为了达到这一目的,通常采用的方法为观察不同反应时间下的样品的形貌。很显然,这种方法不可避免地存在着以下的缺陷,一是需要通过多步骤来完成;二是每一步试验的条件很难做到完全的一致。

虽也有使用阴极可以移动的装置,如在2002年12月4日公开的中国发明专利申请公开说明书CN 1382833A中披露的“一种挂具旋转的电镀方法”。但其目的却仅是为了提供一种使常规的挂镀也具有滚镀的优点,来提高沉积速度,消除镀层的毛刺麻点、针孔,保证镀层厚薄均匀,特别是保证纳米复合镀层中微粉的含量及均匀分布。它的构成为将挂置工件的工件框与转动机构相连接。电镀时,使工件框在镀槽内按顺时方向或反时方向作由上而下的旋转。尽管如此,这种电镀方法仍未能解决在衬底上生长纳米材料并观察所生成的纳米材料这一难题。

发明内容

本发明要解决的技术问题为克服上述各种技术方案的局限性,提供一种结构简单、实用,使用方便的观察电化学法生长纳米材料的装置。

本发明要解决的另一个技术问题为提供一种观察电化学法生长纳米材料的装置的控制方法。

为解决本发明的技术问题,所采用的技术方案为:观察电化学法生长纳米材料的装置包括置于电解液中的阳极和阴极衬底,以及与所述阳极和阴极衬底电连接的电位仪,特别是所述阴极衬底经连线与步进电机连接,所述步进电机的输入端与控制器的输出端电连接。

作为观察电化学法生长纳米材料的装置的进一步改进,所述的阴极衬底的上方置有滑轮,连线与滑轮绕接;所述的连线的一端与步进电机轴绕接;所述的阳极为石墨片,阴极衬底为涂有银子晶的氧化铟锡(ITO)玻璃;所述的阳极为锌片,阴极衬底为硅片。

为解决本发明的另一个技术问题,所采用的另一个技术方案为:观察电化学法生长纳米材料的装置的控制方法包含以下步骤:根据需观察的电化学生长的对象,设定阴极衬底的提拉速率和提拉的时间,即步进电机的转速和转动的时间;设定电化学反应的电流为恒定电流;按设定的步进电机的转速和转动的时间,以及电化学反应的电流,控制步进电机运行,进行电化学反应。

作为观察电化学法生长纳米材料的装置的控制方法的进一步改进,所述的需观察的电化学生长的对象为二维银纳米结构时,阴极衬底的提拉速率为0.8193μm/s,提拉的时间为5h;所述的恒定电流的电流密度为6μA/cm2;所述的需观察的电化学生长的对象为氧化锌纳米结构时,阴极衬底的提拉速率为1.6386μm/s,提拉的时间为2.5h;所述的恒定电流的电流密度为0.6mA/cm2

相对于现有技术的有益效果是,其一,采用将阴极衬底通过连线与步进电机连接,步进电机的输入端与控制器的输出端电连接的结构,通过对步进电机转速的精确控制,仅在原位就观测到了利用电化学法生长贵金属和氧化锌纳米结构的全过程。这种在同一衬底上连续记载着的不同反应时间所生成的纳米结构形貌的变化,对于出现生长拐点的纳米材料来说,显得尤为重要,由其可观察到量变-质变的变化过程。它既在保证试验条件一致性的前提下,为所生成的纳米材料的生长机理提供了直观的强有力的可靠依据,又节约了大量的时间,还有着结构简单、使用方便的特点;其二,控制方法简便、实用,易于推广使用;其三,装置和方法可应用于其他体系的电沉积和无电沉积中,为研究纳米材料的生长机理提供可靠的依据。

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