[发明专利]电致变色镜无效
申请号: | 200810124992.3 | 申请日: | 2008-06-25 |
公开(公告)号: | CN101334567A | 公开(公告)日: | 2008-12-31 |
发明(设计)人: | 仲保纯一;服部正治;山口敦;斋藤永宏;石崎贵裕;高井治 | 申请(专利权)人: | 株式会社东海理化电机制作所;国立大学法人名古屋大学 |
主分类号: | G02F1/15 | 分类号: | G02F1/15;G02F1/153 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 丁香兰;庞东成 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 变色镜 | ||
1.一种电致变色镜,其特征在于,所述电致变色镜包含:
能够反射入射光并且具有导电性的导电性反射膜,所述导电性反射膜中形成有在所述导电性反射膜的厚度方向贯通的多个微细的贯通孔,并且所述贯通孔的各中心之间的距离与所述贯通孔的内周直径尺寸之比为7以上;
电致变色膜,所述电致变色膜设置在所述导电性反射膜的光入射和反射侧,并且所述电致变色膜由于进行还原反应而被着色;
具有导电性的导电膜,所述导电膜设置在所述导电性反射膜的与所述电致变色膜相反的一侧;和
电解液,所述电解液包含锂离子,并且封装在所述导电膜与所述导电性反射膜之间,其中,由于施加电压使所述导电膜为正且所述导电性反射膜为负,所述锂离子供给到所述电致变色膜的所述还原反应。
2.如权利要求1所述的电致变色镜,其特征在于,在所述电致变色膜中形成有在所述电致变色膜的厚度方向贯通的多个微细的贯通孔,并且形成在所述电致变色膜中的所述贯通孔的各中心之间的距离与形成在所述电致变色膜中的所述贯通孔的内周直径尺寸之比为7以上。
3.如权利要求1所述的电致变色镜,其特征在于,形成在所述导电性反射膜中的所述贯通孔的直径尺寸为20μm以下。
4.如权利要求1所述的电致变色镜,其特征在于,形成在所述导电性反射膜中的所述贯通孔的直径尺寸为300nm以下。
5.如权利要求1所述的电致变色镜,其特征在于,所述多个贯通孔的各中心之间的距离为10μm以下。
6.如权利要求1所述的电致变色镜,其特征在于,所述贯通孔的形成位置是随机的。
7.如权利要求1所述的电致变色镜,其特征在于,所述导电性反射膜包含:
具有导电性的第一导电性反射膜,所述第一导电性反射膜形成在所述电致变色膜的厚度方向的一侧,并且反射透过所述电致变色膜的光;和
具有导电性的导电性保护膜,所述导电性保护膜形成在所述第一导电性反射膜的与所述电致变色膜相反的一侧,由与构成所述第一导电性反射膜的材料相比更耐腐蚀的材料形成。
8.如权利要求7所述的电致变色镜,其特征在于,所述导电性保护膜包含具有导电性的第二导电性反射膜,所述第二导电性反射膜反射来自所述第一导电性反射膜侧的光。
9.如权利要求1所述的电致变色镜,其特征在于,所述电致变色镜还包含还原反应补偿单元,所述还原反应补偿单元通过储存处于施加所述电压状态的电荷或通过与所述电解液中的阴离子进行氧化反应,来补偿所述还原反应。
10.如权利要求9所述的电致变色镜,其特征在于,所述还原反应补偿单元包含阴离子反应膜,所述阴离子反应膜由导电性聚合物或氧化还原聚合物形成并设置在所述导电膜的导电性反射膜侧,并且所述阴离子反应膜被由于施加所述电压而已朝所述导电膜侧移动的阴离子所氧化。
11.如权利要求9所述的电致变色镜,其特征在于:
所述导电膜由银或者含银合金形成;
所述电解液包含难溶盐的阴离子,当施加电压使所述导电膜为正且所述导电性反射膜为负时,所述难溶盐的阴离子与形成所述导电膜的银的离子反应;
所述电致变色镜还包含析出膜,所述析出膜由所述难溶盐形成,并设置在所述导电膜的导电性反射膜侧,并且使析出物析出,所述析出物通过由于施加所述电压而已朝所述导电膜侧移动的所述难溶盐的阴离子与构成所述导电膜的银的离子之间的反应形成;并且
所述还原反应补偿单元包含形成所述导电膜的所述银、构成所述电解液的所述阴离子和所述析出膜。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东海理化电机制作所;国立大学法人名古屋大学,未经株式会社东海理化电机制作所;国立大学法人名古屋大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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