[发明专利]电致变色镜无效

专利信息
申请号: 200810124993.8 申请日: 2008-06-25
公开(公告)号: CN101334568A 公开(公告)日: 2008-12-31
发明(设计)人: 仲保纯一;服部正治;山口敦;斋藤永宏;石崎贵裕;高井治 申请(专利权)人: 株式会社东海理化电机制作所;国立大学法人名古屋大学
主分类号: G02F1/15 分类号: G02F1/15;G02F1/153
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 丁香兰;庞东成
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 变色镜
【权利要求书】:

1.一种电致变色镜,所述电致变色镜包含:

电致变色膜,所述电致变色膜由于进行还原反应而被着色;

具有导电性的导电性反射膜,所述导电性反射膜形成在所述电致变 色膜的厚度方向的一侧并且反射已透过所述电致变色膜的光,所述导电 性反射膜包含:

具有导电性的第一导电性反射膜,所述第一导电性反射膜形成在所 述电致变色膜的厚度方向的一侧,并且反射已透过所述电致变色膜的光;

具有导电性的导电膜,所述导电膜设置在所述电致变色膜的厚度方 向的一侧和所述导电性反射膜的与所述电致变色膜相反的一侧;和

电解液,所述电解液包含锂离子,并且封装在所述导电性反射膜与 所述导电膜之间,其中,由于施加电压使所述导电膜为正且所述导电性 反射膜为负,所以所述锂离子朝所述电致变色膜侧移动,并供给到所述 电致变色膜的还原反应;

其特征在于,所述电致变色镜包含:

具有导电性的导电性保护膜,所述导电性保护膜形成在所述第一导 电性反射膜的与所述电致变色膜相反的一侧,由与构成所述第一导电性 反射膜的材料相比更耐腐蚀的材料形成;

还原反应补偿单元,所述还原反应补偿单元通过储存处于施加所述 电压状态的电荷或通过与所述电解液中的阴离子进行氧化反应,来补偿 所述还原反应,

其中,所述导电膜由银或者含银合金形成;

所述电解液被形成为包含难溶盐的阴离子,当施加电压使所述导电 膜为正且所述第一导电性反射膜和所述导电性保护膜为负时,所述难溶 盐的阴离子与形成所述导电膜的银的离子反应;

所述电致变色镜还包含析出膜,所述析出膜由所述难溶盐形成,并 设置在所述导电膜的导电性保护膜侧,并且使析出物析出,所述析出物 通过由于施加所述电压而已朝所述导电膜侧移动的所述难溶盐的阴离子 与构成所述导电膜的银的离子之间的反应形成;并且

所述还原反应补偿单元包含形成所述导电膜的所述银、构成所述电 解液的所述阴离子和所述析出膜,

在所述导电性反射膜中,形成有在所述导电性反射膜的厚度方向贯 通所述导电性反射膜的多个微细的贯通孔,

在所述电致变色膜中,形成有沿所述电致变色膜的厚度方向在所述 导电性反射膜侧开口的多个微细的孔部,所述孔部与所述贯通孔相通。

2.如权利要求1所述的电致变色镜,其特征在于,所述导电性保护 膜包含具有导电性的第二导电性反射膜,所述第二导电性反射膜反射来 自所述第一导电性反射膜侧的光。

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