[发明专利]承受高温的物件的制造方法无效

专利信息
申请号: 200810125124.7 申请日: 2003-06-27
公开(公告)号: CN101307442A 公开(公告)日: 2008-11-19
发明(设计)人: J·-C·赵;D·M·利普金 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: C23C30/00 分类号: C23C30/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 何自刚
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 承受 高温 物件 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种用于保护物件免受高温氧化环境影响的方法,该方法包 括:

提供衬底,所述衬底包括选自镍基超合金,钴基超合金和铁基超 合金的材料;

将第一涂敷层设置到该衬底上,其中,该第一涂敷层包括镍(Ni)、 锆(Zr)和铝(Al);

将第二涂敷层设置到该第一涂敷层上,其中,该第二涂敷层包括 原子百分比至少为90%的铝;以及

使该第一涂敷层与该第二涂敷层反应,以形成一反应后的涂敷 层,其中,所述反应后的涂敷层包括一单相的涂敷层,该单相的涂敷 层包括铝的金属间互化物,其中所述单相的涂敷层的体积的至少80 %包括单相。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,设置该第二涂敷层包 括,通过使用从一组包括等离子沉积和电子束物理气相沉积中选择的 物理气相沉积技术从而设置该第二层。

3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,设置该第二涂敷层包 括设置这样的一层,该层包括原子百分比至少为95%的铝。

4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,该第二涂敷层主要由 铝构成。

5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,设置该第一层包括使 用从一组包括等离子沉积、电子束物理气相沉积、热喷涂沉积、和等 离子喷涂沉积中选择的技术来设置该第一层。

6.如权利要求1所述的方法,其特征在于,还包括在所述第二涂 敷层上设置热阻挡涂层。

7.如权利要求1所述的方法,其特征在于,设置该第二涂敷层包 括设置一厚度至少为5微米的层。

8.如权利要求7所述的方法,其特征在于,所述厚度在5-20微 米的范围内。

9.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述Zr以原子百分 比达到2%的浓度存在于该第一层中。

10.如权利要求9所述的方法,其特征在于,所述Zr以原子百分 比在0.2-0.8%的范围内的浓度存在。

11.如权利要求1所述的方法,其特征在于,提供所述衬底包括 提供燃气涡轮机组件的部件。

12.如权利要求11所述的方法,其特征在于,提供所述部件包括 提供涡轮机叶片、涡轮盘、和燃烧室中的至少一个。

13.如权利要求1所述的方法,其特征在于,设置该第一涂敷层 包括设置第一涂敷层,该第一涂敷层还包括铬(Cr)、原子百分比达 到20%的钴(Co)、和原子百分比达到20%的铁(Fe)中的至少一种。

14.如权利要求13所述的方法,其特征在于,所述Cr以原子百 分比达到15%的浓度存在于该第一层中。

15.如权利要求14所述的方法,其特征在于,所述Cr以原子百 分比在4-12%的范围内的浓度存在于该第一层中。

16.如权利要求13所述的方法,其特征在于,设置该第一层包括 设置这样的第一层,该第一层包括从一组包括铪(Hf)、钇(Y)、 硅(Si)、钛(Ti)、镧(La)、铈(Ce)、和钽(Ta)中选择的至 少一种元素。

17.如权利要求1所述的方法,其特征在于,设置该第一涂敷层 包括设置一具有大于10微米的厚度的层。

18.如权利要求17所述的方法,其特征在于,所述厚度在10-100 微米的范围内。

19.如权利要求18所述的方法,其特征在于,所述厚度在25-75 微米的范围内。

20.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述反应后的涂敷 层的所述单相包括具有B2型结构的镍铝互化物(NiAl)相。

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