[发明专利]用于质谱分析的基底,质谱分析法和质谱分析仪

权利要求书

1.一种在激光解吸/电离质谱分析中使用的用于质谱分析的基底，所述用于质谱分析的基底包含金属并且具有通过在基底的表面上形成突出部分而在基底的表面上形成的多孔结构，其中，从包括羧基，磺酸基和氯化铵基的组中选择的至少一个官能团被共价键合到所述基底的表面；

其特征在于所述多孔结构是由铂和包含铂的多元金属中的一个形成的树枝状结构，所述铂是通过使氧化铂经历还原处理而获得的，所述包含铂的多元金属是通过使复合氧化物经历还原处理而获得的。

2.如权利要求1所述的用于质谱分析的基底，

其中，在包含金属并且具有多孔结构的所述基底的表面上形成有氧化物层，并且

其中，从包括羧基，磺酸基和氯化铵基的组中选择的至少一个官能团被共价键合到所述氧化物层。

3.如权利要求2所述的用于质谱分析的基底，其中，所述氧化物层是由TiO₂、RuO₂、NiO₂以及WO₃中的一个形成的。

4.如权利要求1所述的用于质谱分析的基底，其中，除了铂之外的金属元素包含从包括以下金属的组中选择的至少一个金属：Al、Si、Ti、V、Cr、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ge、Zr、Nb、Mo、Ru、Rh、Pd、Ag、In、Sn、Hf、Ta、W、Os、Ir、Au、La、Ce和Nd。

5.如权利要求1所述的用于质谱分析的基底，其中，所述多孔结构具有30nm至1,000nm的厚度。

6.一种质谱分析法，包括：

将样品放置在如权利要求1所述的用于质谱分析的基底上；以及

用激光照射所述基底。

7.一种质谱分析仪，其被提供有如权利要求1所述的用于质谱分析的基底。