[发明专利]可降低污染物的衬底传送及支撑系统

权利要求书

1.一种衬底提升组件，用于将一衬底举离一衬底支撑件及运送该衬底，该提升组件包含：

(a)一箍状物，其大小配合于该衬底支撑件的一周缘；及

(b)安装在该箍状物上的一第一对拱形鳍状物，每个拱形鳍状物具有一对相对的末端，其具有向内辐射状延伸的突出部，每个突出部具有一突起的突出物以升举一衬底，以使该衬底仅接触到该突起的突出物，从而在使用该第一对鳍状物以从该衬底支撑件升举该衬底时，可以使该衬底与该突出部的接触最小。

2.根据权利要求1所述的衬底提升组件，其中该突出部从该相对的末端向内延伸至少4mm。

3.根据权利要求1所述的衬底提升组件，其中该突起的突出物从该相对的末端向内间隔，用以接触到该衬底的直径处在至少该衬底的周缘内侧至少4mm。

4.根据权利要求1所述的衬底提升组件，其中该突起的突出物包含一高度为高于该突出部的表面至少1mm。

5.根据权利要求1所述的衬底提升组件，进一步包含安装在该第一对拱形鳍状物下的一第二对拱形鳍状物。

6.根据权利要求1所述的衬底提升组件，其中该第一对拱形鳍状物包含有不锈钢及铝中至少之一。

7.根据权利要求1所述的衬底提升组件，其中该第一对拱形鳍状物包含有矾土及石英中至少之一。

8.根据权利要求1所述的衬底提升组件，其中该衬底支撑件在一处理腔室中，并且该衬底提升组件进一步包含一能够输送一衬底到该第一对拱形鳍状物的衬底输送臂，并包含一控制器，其具有程序代码而能够(i)计算一偏移距离，其中包含该衬底的检测到的位置与该处理腔室的中心之间的差，(ii)产生一关于该偏移距离的控制信号来控制该输送臂的移动来定位该衬底在该支撑件的中心上，(iii)产生一控制信号以升起该箍状物来将该拱形鳍状物升举朝向在该腔室中的该衬底输送臂，及(iv)在该衬底输送臂与该拱形鳍状物之间输送该衬底。

9.一种衬底处理设备，其包含：

(a)一处理腔室，其包括：

(i)一气体供应器；

(ii)一气体激能器；

(iii)一衬底支撑件，用于在该腔室中支撑该衬底，该支撑件包含一本体，该本体具有一盘片，且该盘片包括一凹入的周缘突出部；

(iv)一衬底提升组件，用于将一衬底举离该支撑件，该衬底提升组件包括(1)一箍状物，其大小配合该衬底支撑件的一周缘，及(2)一对安装在该箍状物上的拱形鳍状物，每个拱形鳍状物包含一对具有向内辐射状延伸的突出部的相对末端，每个突出部具有一突起的突出物以升举一衬底，以使该衬底仅接触该突起的突出物，从而在使用该对鳍状物以将该衬底升举脱离该衬底支撑件时使该衬底与该突出部的接触最小；及

(v)一气体排出装置；

(b)一输送臂，用于该衬底运送到该腔室中；

(c)一检测器，用于检测该输送臂在该腔室中的位置，并产生关于该位置的一信号；

(d)一控制器，其含有程序代码以控制该气体供应器、气体激能器、支撑件、提升组件、输送臂及检测器，用于将该衬底运送进入该处理腔室，并到达该衬底支撑件上，其中该程序代码包含衬底居中控制代码，用于控制该衬底输送臂的移动以将该衬底定位在该支撑件中央的上方，其通过(1)接收来自该检测器的信号，并决定该衬底在该处理腔室中的位置，(2)计算一偏移距离，其中包含该衬底的检测位置与该处理腔室的中央之间的差，及(3)产生一关于该偏移距离的控制信号，以控制该输送臂的移动，并将该衬底定位在该支撑件中央的上方。

10.根据权利要求9所述的设备，其中该支撑件包含位于在该本体上的一类金刚石涂覆，该类金刚石涂覆包含有下述互连的网络，(i)碳及氢，及(ii)硅及氧，且该类金刚石涂覆具有一接触表面，其包含：

(i)小于0.3的摩擦系数；

(ii)至少8GPa的硬度；及

(iii)小于5×10¹²atoms/cm²的金属的一金属浓度水平，

通过该接触表面在当直接或间接接触一衬底时可以降低一衬底的污染。

11.根据权利要求9所述的设备，其中该支撑件包含一本体，其具有包含一沟槽图案的衬底接收表面，该沟槽图案包含多个具有不同半径的圆形沟槽，及多个辐射沟槽，其辐射状地延伸跨过该接收表面，且仅位于该圆形沟槽之间。