[发明专利]用于通过气相沉积工艺制造光纤预制件的方法

权利要求书

1.一种用于通过气相沉积工艺制造光纤预制件的方法，所述方 法包括以下步骤：

i)提供具有供给侧和排放侧的中空玻璃石英衬底管，

ii)经由所述中空玻璃石英衬底管的所述供给侧向所述中空玻璃 石英衬底管的内部提供掺杂或未掺杂的玻璃成形气体，

iii)在所述中空玻璃石英衬底管的所述内部中创造温度和等离子 体条件，从而在所述中空玻璃石英衬底管的内表面上沉积玻璃层， 所述沉积包括多个独立阶段，每个阶段具有初始折射率值以及最终 折射率值并且在特定时间周期期间在所述中空玻璃石英衬底管的内 侧上包括多个玻璃层的沉积，所述等离子体在所述中空玻璃石英衬 底管的所述供给侧附近的反转点和所述排放侧附近的反转点之间沿 着所述中空玻璃石英衬底管的纵向轴线前后移动，

iv)在沉积阶段中沉积玻璃层；

v)通过执行至少一个中间步骤来中断所述沉积阶段，所述至少 一个中间步骤包括向所述中空玻璃石英衬底管的所述供给侧提供蚀 刻气体，同时停止掺杂或未掺杂的玻璃成形气体的供给；

vi)在所述至少一个中间步骤终止之后，在下一沉积阶段中，沉 积玻璃层；以及

vii)将在步骤vi)之后获取的中空玻璃石英衬底管固化为预制 件。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于使用含氟蚀刻气体。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述蚀刻气体从包 括以下内容的组中选择：CCl₂F₂、CF₄、C₂F₆、SF₆、F₂和SO₂F₂或它 们的组合。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述蚀刻气体在存 在冲洗气体时提供。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述冲洗气体是氧气。

6.根据权利要求3所述的方法，其特征在于所述蚀刻气体是C₂F₆和O₂的组合。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述中间步骤执行 持续5-15分钟的周期。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于在所述中间步骤期 间所述衬底管旋转。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于在所述中间步骤期 间，所述等离子体出现在所述中空玻璃石英衬底管的所述排放侧附 近的所述反转点的邻近区域中。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于所述等离子体功率 设置为最大值10kW。

11.根据权利要求9所述的方法，其特征在于所述等离子体功率 设置为最大值5kW。

12.根据前述权利要求中的任意一项或多项所述的方法，其特征 在于所述中间步骤所述沉积阶段和所述下一沉积阶段之间执行。