[发明专利]标准作业时间计算装置及标准作业时间计算方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种标准作业时间计算装置及标准作业时间计算方 法，特别涉及对作为处理一批基板的作业时间的基准的标准作业时间 时所利用的标准作业时间计算装置及标准作业时间计算方法。

背景技术

在半导体制品的制造过程中，将多片半导体晶片汇总以一批单位 进行处理。作为其处理方式，包括逐片处理半导体晶片的片页式和汇 总一批或多批同时处理的批量式。作为片页式的工序，示例了光刻工 序。作为批量式的工序，示例了化学气相沉积(chemical vapor deposition)或不纯物扩散处理等。在这些制造工序的处理装置中，设 定作为每一批的作业时间的基准的标准作业时间，该标准作业时间用 于制造线模拟或调度。

该作业时间被例如批内晶片的片数的变化、装置运转状况、改善 等的事件的影响而变化。该标准作业时间从制造线内接收作业实际成 绩数据，存储在数据库中，将该作业实际成绩数据进行统计处理，进 行自动计算。该统计处理采用一般的质量管理方法，将分布峰值作为 标准作业时间。因此，不存储某一期间的数据时，不会出现分布峰值。 因此，很难使对作业时间产生影响的事件立即反映到该标准作业时间 上。模拟或调度很多情况下希望线内发生的事件反映出来并进行预测， 希望有自动将事件反映到标准作业时间上的方法。

在特开2004-246628号公报中公开了能够高精度地推测标准时间 (物资约束时间)的标准时间计算装置。该标准时间计算装置用于根 据生产线中的作业实际成绩数据计算标准时间，其特征在于，具有由 生产线中不进行作业的时间和作业实际成绩数据计算标准时间的计算 单元。

本发明的发明人认识到以下问题点。

在特开2004-246628号公报的方法中，由于通过统计处理由存储 数据分布的峰值求取标准作业时间，因此即使存在由于伴随制品处理 方法变更的批内晶片的片数变化、处理装置的运转状况变化、处理能 力改善等引起的变化对标准作业时间产生影响的事件，到该事件时的 数据分布达到峰值为止需要时间，无法立即反映到标准作业时间。并 且相反地装置故障或评价中的数据达到峰值时，已经无法避免。为了 反映、校正上述结果，进行实际成绩数据解析，其后需要手动输入来 进行设定，需要较多的时间。

例如，在片页式处理装置的情况下，事件后的分布与之前不同地 发生时，在其中求出直方图的峰值，进行直线近似。由此，存在作业 时间、停机时间都显示异常值的情况。在批量式处理装置的情况下， 事件后的分布比之前不同地发生时，有时作业时间、停机时间都变为 两级分布。此时，在存储数据数中，有时事件前变为峰值，相反地事 件后变为峰值，其结果是，有时取到了异常值，有时候无法得到需要 的标准作业时间。

发明内容

本发明的目的在于提供一种标准作业时间计算装置及标准作业时 间计算方法，能够更合理地计算处理基板的作业的标准作业时间。

根据本发明的一个观点，标准作业时间计算装置具有：数据存储 部、事件信息收集部、作业片数收集部、以及标准作业时间计算部。 数据存储部收集表示在实施完毕的作业中处理的基板的实际成绩片数 和上述实施完毕的作业所需要的实际成绩作业时间的实际成绩数据。 事件信息收集部收集与对处理基板的作业所需要的作业时间产生影响 的事件相关的事件信息。作业片数收集部收集在未实施作业中处理的 基板的片数。标准作业时间计算部，根据该实际成绩数据、事件信息 及片数，计算该未实施作业所需要的标准作业时间。

根据本发明的其他观点，标准作业时间计算方法具有：收集表示 在实施完毕的作业中处理的基板的实际成绩片数和上述实施完毕的作 业所需要的实际成绩作业时间的实际成绩数据的步骤；收集与对处理 基板的作业所需要的作业时间产生影响的事件相关的事件信息的步 骤；收集在未实施作业中处理的基板的片数的步骤；以及根据该实际 成绩数据、事件信息及片数，计算该未实施作业所需要的标准作业时 间的步骤。

根据这种标准作业时间计算装置及标准作业时间计算方法，在发 生对作业时间产生影响的事件时，能够更准确地推测将来要实施的未 实施作业的标准作业时间，更准确地预测实施该未实施作业的生产线 运转的制造处理装置运转状况。

上述发明的目的、效果、特点可以通过参照附上的附图的实施方 式的记载得以明确。

附图说明

图1是表示本发明的一个实施方式的标准作业时间计算装置的框 图。