[发明专利]光电元件及其制造方法、背光模块装置和照明装置

权利要求书

1.一种光电元件，包括：

一半导体发光叠层，具有一第一半导体层、一有源层与一第二半导体层， 其中该一第一半导体层的一表面，该表面具有多个凹陷；

一透明导电层，形成于该第一半导体层的该表面上，使得该些凹陷形成 多个孔；以及

一金属反射层，形成于该透明导电层之上，

其中，该多个孔形成于该透明导电层与该第一半导体层之间。

2.如权利要求1所述的光电元件，其中该孔的最大直径小于200nm。

3.如权利要求1所述的光电元件，其中该孔的折射系数为1。

4.如权利要求1所述的光电元件，其中该孔的形状可以是六角形孔穴、 倒金字塔形或不规则的多边形。

5.如权利要求1所述的光电元件，其中该孔可以是周期性排列或不规 则排列。

6.如权利要求1所述的光电元件，其中形成该凹陷的方法可以是外延 法、湿式蚀刻法、纳米印刷法、纳米球体散布法、高温合金球法、机械式粗 化法或干式蚀刻法。

7.如权利要求1所述的光电元件，其中该透明导电层可以被一无机介 电层或有机介电层所取代。

8.一种光电元件制造方法，其步骤包括：

形成具有一第一半导体层、一有源层与一第二半导体层的一半导体发光 叠层；

形成多个凹陷于该一第一半导体层的一表面上；

形成一透明导电层于该第一半导体层的该表面上，并使得该些凹陷形成 多个孔；以及

形成一金属反射层于该透明导电层的上，

其中，该多个孔形成于该透明导电层与该第一半导体层之间。

9.如权利要求8所述的光电元件制造方法，其中形成该多个凹陷的方 法是外延法、湿式蚀刻法、纳米印刷法、纳米球体散布法、高温合金球法、 机械式粗化法或干式蚀刻法。

10.一种背光模块装置，包括：

一光源装置，由权利要求1～9所述的光电元件其中之一所组成；

一光学装置，置于该光源装置的出光路径上；以及

一电源供应系统，提供该光源装置所需的电源。

11.一种照明装置，包括：

一光源装置，由权利要求1～9所述的光电元件其中之一所组成；

一电源供应系统，提供该光源装置所需的电源；以及

一控制元件，控制该电源输入该光源装置。