[发明专利]具有透明晶体管的CMOS图像传感器无效
申请号: | 200810129865.2 | 申请日: | 2008-08-14 |
公开(公告)号: | CN101414615A | 公开(公告)日: | 2009-04-22 |
发明(设计)人: | 朴永洙;张丞爀 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人: | 郭鸿禧;罗延红 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 透明 晶体管 cmos 图像传感器 | ||
1、一种CMOS图像传感器,包括:
光电二极管;
至少一个晶体管,在光电二极管上。
2、如权利要求1所述的CMOS图像传感器,还包括多个晶体管。
3、如权利要求1所述的CMOS图像传感器,其中,至少一个晶体管是透明晶体管。
4、如权利要求1所述的CMOS图像传感器,其中,至少一个晶体管包括由半导体氧化物形成的沟道层。
5、如权利要求4所述的CMOS图像传感器,其中,半导体氧化物是从由氧化锌、氧化锡、氧化铟和它们的组合组成的组中选择的至少一种。
6、如权利要求5所述的CMOS图像传感器,其中,半导体氧化物包含从由钽、铪、铟、镓、锶和它们的组合组成的组中选择的至少一种。
7、如权利要求1所述的CMOS图像传感器,其中,至少一个晶体管中的每个包括位于覆盖光电二极管的第一绝缘层上的源电极和漏电极、覆盖位于第一绝缘层上的源电极和漏电极的半导体氧化物层、覆盖半导体氧化物层的第二绝缘层和位于第二绝缘层上并处于源电极和漏电极之间的栅电极。
8、如权利要求7所述的CMOS图像传感器,其中,源电极和漏电极是透明电极。
9、如权利要求8所述的CMOS图像传感器,其中,透明电极由氧化铟锡形成。
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H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
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H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的