[发明专利]研磨垫及其微型结构形成方法有效
| 申请号： | 200810130087.9 | 申请日： | 2008-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN101633150A | 公开（公告）日： | 2010-01-27 |
| 发明（设计）人： | 邱汉郎;陈少禹;郑裕隆 | 申请（专利权）人： | 贝达先进材料股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B29/00;H01L21/304;B24D18/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 周长兴 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 及其 微型 结构 形成 方法 | ||
1.一种在研磨垫上形成微型结构的方法包含以下步骤，其特征在于：
提供一由超细纤维形成的基材；
含浸该基材于一树脂中；
固化该含浸后的基材以形成一片材；以及
研磨该片材的表面，得到微型结构的表面。
2.如权利要求1所述的研磨垫上形成微型结构的方法，其特征在于， 该微型结构为毛羽状微型结构，且该毛羽状微型结构的大小为 1nm～100μm。
3.如权利要求1所述的研磨垫上形成微型结构的方法，其特征在于， 该微型结构由微型发泡技术所形成，且该微型发泡技术为物理发泡技术或 化学发泡技术。
4.如权利要求1所述的研磨垫上形成微型结构的方法，其特征在于： 提供一溶剂于该树脂中，其中该溶剂与该树脂不互溶，搅拌该树脂与溶剂 混合液，使该溶剂悬浮分布于该树脂中。
5.如权利要求4所述的研磨垫上形成微型结构的方法，其特征在于， 该溶剂为亲水性溶剂。
6.如权利要求5所述的研磨垫上形成微型结构的方法，其特征在于， 该亲水性溶剂为二甲基甲酰胺。
7.如权利要求4所述的研磨垫上形成微型结构的方法，其特征在于， 于固化该含浸后的基材前，移除该溶剂，使该片材的表面具有多个槽孔。
8.如权利要求7所述的研磨垫上形成微型结构的方法，其特征在于， 该移除步骤是用水将该溶剂移除。
9.如权利要求7所述的研磨垫上形成微型结构的方法，其特征在于， 该槽孔为微型凹槽，其宽度为1nm～100μm。
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