[发明专利]液晶显示装置及电子设备有效

专利信息
申请号: 200810130136.9 申请日: 2008-07-25
公开(公告)号: CN101354511A 公开(公告)日: 2009-01-28
发明(设计)人: 黑川义元;池田隆之;长多刚;井上卓之 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;H01L27/12;H01L21/84;H01L29/786
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 侯颖媖
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 液晶 显示装置 电子设备
【权利要求书】:

1.一种液晶显示装置,包括:

具有绝缘表面的衬底;

形成在所述衬底上的晶体管;以及

电连接到所述晶体管的像素电极,

其中所述晶体管具有:栅电极;所述栅电极上的栅极绝缘层;所 述栅极绝缘层上的具有微晶结构的半导体层;以及所述具有微晶结构 的半导体层上的缓冲层,

所述半导体层具有沟道形成区域,

所述晶体管的沟道宽度W和所述晶体管的沟道长度L满足 0.1≤W/L≤1.7的关系,且

所述缓冲层包括非晶半导体。

2.根据权利要求1所述的液晶显示装置,其中在所述具有微晶结 构的半导体层上的所述缓冲层中形成有槽部。

3.一种包括根据权利要求1所述的液晶显示装置的电子设备。

4.一种液晶显示装置,包括:

具有绝缘表面的衬底;

形成在所述衬底上的晶体管;以及

电连接到所述晶体管的像素电极,

其中所述晶体管具有:栅电极;所述栅电极上的栅极绝缘层;所 述栅极绝缘层上的具有微晶结构的半导体层;以及所述具有微晶结构 的半导体层上的缓冲层,

所述晶体管的沟道宽度W为1μm以上且5μm以下,且

所述缓冲层包括非晶半导体。

5.根据权利要求4所述的液晶显示装置,其中在所述具有微晶结 构的半导体层上的所述缓冲层中形成有槽部。

6.一种包括根据权利要求4所述的液晶显示装置的电子设备。

7.一种液晶显示装置,包括:

具有绝缘表面的衬底;

形成在所述衬底上的晶体管;以及

电连接到所述晶体管的像素电极,

其中所述晶体管具有:栅电极;所述栅电极上的栅极绝缘层;所 述栅极绝缘层上的具有微晶结构的半导体层;所述具有微晶结构的半 导体层上的缓冲层;所述缓冲层的第一区域上的源区域;所述缓冲层 的第二区域上的漏区域;所述源区域上的第一导电层;以及所述漏区 域上的第二导电层,

所述半导体层具有沟道形成区域,

所述缓冲层包括非晶半导体和在所述第一区域和所述第二区域之 间的槽部,

并且所述晶体管的沟道宽度W和所述晶体管的沟道长度L满足 0.1≤W/L≤1.7的关系,

并且所述缓冲层至少设置在所述沟道形成区域上。

8.根据权利要求7所述的液晶显示装置,其中还包括相对衬底,

其中,所述相对衬底包括在该相对衬底之上的遮光膜、所述遮光 膜上的第一着色膜、所述第一着色膜上的第二着色膜、所述第二着色 膜上的第三着色膜、所述第三着色膜上的相对电极以及所述相对电极 上的隔离物,

且所述衬底与所述相对衬底互相重叠。

9.一种包括根据权利要求7所述的液晶显示装置的电子设备。

10.一种液晶显示装置,包括:

具有绝缘表面的衬底;

形成在所述衬底上的晶体管;以及

电连接到所述晶体管的像素电极,

其中所述晶体管具有:栅电极;所述栅电极上的栅极绝缘层;所 述栅极绝缘层上的具有微晶结构的半导体层;所述具有微晶结构的半 导体层上的缓冲层;所述缓冲层的第一区域上的源区域;所述缓冲层 的第二区域上的漏区域;所述源区域上的第一导电层;以及所述漏区 域上的第二导电层,

所述缓冲层包括非晶半导体和在所述第一区域和所述第二区域之 间的槽部,

并且所述晶体管的沟道宽度W为1μm以上且5μm以下,

并且所述缓冲层至少设置在所述成为所述晶体管的沟道形成区域 的具有微晶结构的半导体层上。

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