[发明专利]放射线敏感性树脂组合物、以及层间绝缘膜和微透镜及它们的制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜及微透镜以及它 们的制备方法。

背景技术

薄膜晶体管(以下记为“TFT”)型液晶显示元件、磁头元件、集 成电路元件、固体摄像元件等电子部件中，为了使层状配置的布线之间 绝缘，通常设置层间绝缘膜。作为形成层间绝缘膜的材料，由于优选为 了得到所必需的图案形状的工序数少而且具有足够的平坦性的材料，因 此广泛使用放射线敏感性树脂组合物(参照特开2001-354822和特开 2001-343743)。

上述电子部件中，例如经过在上述层间绝缘膜之上形成透明电极 膜、进而在其上形成液晶取向膜的工序而制造TFT型液晶显示元件，因 此层间绝缘膜在透明电极膜的形成工序中暴露于高温条件下，或暴露于 电极的图案形成中所使用的抗蚀剂的剥离液中，所以必需对上述条件有 足够的耐性。

近年，对于TFT型液晶显示元件而言，有大画面化、高亮度化、高 精细化、高速应答化、薄型化等动向，因此要求其中用于形成层间绝缘 膜的组合物是高敏感度的，而对于形成的层间绝缘膜在低介电常数、高 透射率等方面要求较以往更高的性能。

另一方面，作为传真机、电子复印机、固体摄像元件等晶载滤色器 等成像光学系统或光纤连接器的光学系统材料，使用具有直径3～100 μm左右的透镜直径的微透镜或将这些微透镜规则排列的微透镜阵列。

形成微透镜或微透镜阵列的方法已知有：形成对应于透镜的抗蚀剂 图案后，通过加热处理使之熔体流动，由此直接作为透镜而利用的方法； 掩蔽熔体流动的透镜图案，通过干蚀刻将透镜形状转印到基底的方法 等。上述透镜图案形成中，放射线敏感性树脂组合物被广泛使用(参照 特开平6-18702和特开平6-136239)。

形成如上述的微透镜或微透镜阵列的元件，然后将其供于下述工 序：为了除去作为布线形成部分的焊盘上的各种绝缘膜，涂布平坦化膜 和蚀刻用抗蚀剂膜，通过所希望的掩模进行曝光、显影，除去焊盘部分 的蚀刻用抗蚀剂，接着通过蚀刻除去平坦化膜或各种绝缘膜，使焊盘露 出的工序。因此，在平坦化膜和蚀刻抗蚀剂的涂膜形成工序以及蚀刻工 序中，对于微透镜和微透镜阵列，需要耐溶剂性或耐热性。

用于形成这样的微透镜的放射线敏感性树脂组合物是高敏感度的， 由其形成的微透镜具有所希望的曲率半径，要求高耐热性、高透射率等。

另外，这样得到的层间绝缘膜或微透镜，在形成其时的显影工序中， 显影时间即使仅较最佳时间过剩一点，则在图案与基板之间显影液渗 透，而容易发生剥离，因此有必需严格控制显影时间，并且在制品的成 品率方面存在问题。

这样，由放射线敏感性树脂组合物形成层间绝缘膜或微透镜时，作 为组合物要求高敏感度，另外在形成工序中的显影工序中即使显影时间 较规定时间过剩，也不发生图案的剥离而显示良好的贴合性，并且对于 由其形成的层间绝缘膜要求高耐热性、高耐溶剂性、低介电常数、高透 射率等，另一方面，形成微透镜时，除了作为微透镜的良好的熔体形状 (所希望的曲率半径)之外，还要求高耐热性、高耐溶剂性、高透射率。 但满足这样的要求的放射线敏感性树脂组合物是以往不知道的。

发明内容

本发明是鉴于以上情况而完成的，本发明的目的在于提供放射线敏 感性树脂组合物，其具有高放射线敏感性，并可以容易地形成耐热性优 异的图案状薄膜。

本发明的另一目的在于提供放射线敏感性树脂组合物，其在用于层 间绝缘膜的形成时可以形成高耐热性、高耐溶剂性、高透射率、低介电 常数的层间绝缘膜，另外在用于微透镜的形成时能够形成具有高透射率 和良好的熔体形状的微透镜。

本发明的另一目的在于提供使用上述放射线敏感性树脂组合物形 成层间绝缘膜和微透镜的方法。

本发明的另一目的在于提供具有高耐热性、高耐溶剂性、低介电常 数、高透射性等诸特性的层间绝缘膜和在显示良好的熔体形状的同时具 备高耐热性、高耐溶剂性、高透射率等诸特性的微透镜。

本发明的进一步的其他目的和优点由以下的的说明来阐明。

根据本发明，本发明的上述目的和优点是通过如下第1方面实现的，

放射线敏感性树脂组合物，其含有[A]聚合物、[B]1，2-二叠氮醌化合 物，

所述[A]聚合物(以下，称聚合物[A])具有如下基团：