[发明专利]光电装置及其制造方法有效
申请号: | 200810130311.4 | 申请日: | 2008-07-04 |
公开(公告)号: | CN101621097A | 公开(公告)日: | 2010-01-06 |
发明(设计)人: | 富振华;吕根泉;王冠儒;刘育全 | 申请(专利权)人: | 泰谷光电科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 赵蓉民 |
地址: | 台湾省南投*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光电 装置 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种光电装置及其制造方法,特别涉及一种半导体光 电装置及其制造方法。
背景技术
目前,常见的光电装置如发光二极管(light-emitting diode,LED) 是由半导体材料制作而成的发光元件,其具有体积小、发热量低、耗 电量低、没有辐射、不含水银、寿命长、反应速度快以及可靠度高等 优点。因此,发光二极管可广泛应用于信息、通讯、消费性电子、汽 车、照明以及交通号志等。
请参照图1所示,以蓝光发光二极管1为例说明,其包含一基板 11、一N型半导体层131、一发光层132、一P型半导体层133以及一 透明导电层14。发光层132位于N型半导体层131与P型半导体层133 之间,透明导电层14位于P型半导体层133上方。
一般而言,发光二极管1的电压以及电流的关系呈指数关系。当 在一P型电极15以及一N型电极16间施加一电压,且该电压大于导 通电压(threshold voltage)时,发光二极管1的电流迅速增加,同 时开始发光。
为使得N型半导体层131、发光层132以及P型半导体层133具有 较佳的磊晶结构,基板11为一蓝宝石(sapphire)基板。由于蓝宝石 基板不导电,因此,公知蓝光发光二极管的P型电极15及N型电极16 设置于相同侧,而造成部分空间的浪费。
然而,发光二极管1仍存在发光效率不佳的问题,因此,如何提 供一种提高发光效率的光电装置及其制造方法,实属当前重要课题之 一。
发明内容
有鉴于上述课题,本发明的目的是提供一种能够提高发光效率的 光电元件及其制造方法。
为达上述目的,本发明提供一种光电装置的制造方法,其包含下 列步骤:形成一光电元件于一图案化牺牲基板上,使得光电元件具有 一图案化侧;形成一承载基板于光电元件上方来承载该光电元件;以 及剥离图案化牺牲基板。
为达上述目的,本发明提供一种光电装置,其包含一承载基板以 及一光电元件。光电元件具有一第一侧以及一第二侧。其中,第一侧 具有一转印图案,承载基板位于第二侧。
承上所述,依据本发明的光电装置及其制造方法,其是将光电元 件形成于图案化牺牲基板上使光电元件具有一图案化侧,图案化牺牲 基板上的图案可转印到光电元件的图案化侧。然后图案化牺牲基板剥 离之后会使得光电元件的图案化侧露出,图案化侧上的图案可用来提 高发光效率。
附图说明
图1为公知发光二极管装置的示意图;
图2为依据本发明第一实施例的光电装置的制造方法的步骤流程 图;
图3A至图3E为依据本发明第一实施例的光电装置的制造方法的 示意图;
图4A至图4F为依据本发明第一实施例的光电装置的图案化牺牲 基板上图案的示意图;
图5为依据本发明第二实施例的光电装置的制造方法的步骤流程 图;
图6A至图6I为依据本发明第二实施例的光电装置的制造方法的 示意图;
图7A至图7B为依据本发明第二实施例的光电装置的图案化牺牲 基板的示意图;
图8A至图8D为依据本发明第二实施例的光电装置的粗化结构的 示意图;
图9为依据本发明第二实施例的光电装置的图案介电层的示意图;
图10为依据本发明第三实施例的光电装置的制造方法的步骤流程 图;
图11A至图11J为依据本发明第三实施例的光电装置的制造方法 的示意图;以及
图12A至图12B为依据本发明第三实施例的光电装置的图案介电 层的示意图。
元件符号说明:
1:发光二极管
11、311、411:基板
131:N型半导体层
132:发光层
133:P型半导体层
14:透明导电层
15:P型电极
16:N型电极
2、3、4:光电装置
21、31、41:图案化牺牲基板
22、32、42:光电元件
221、321、421:图案化侧
222、322、422:第一半导体层
223、323、423:发光层
224、324、424:第二半导体层
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