[发明专利]组合正电子发射-磁共振断层成像设备无效
申请号: | 200810130509.2 | 申请日: | 2008-06-26 |
公开(公告)号: | CN101334454A | 公开(公告)日: | 2008-12-31 |
发明(设计)人: | 路德维格·克赖彻;于尔根·尼斯特勒;马丁·劳施;沃尔夫冈·伦兹;诺伯特·里奇 | 申请(专利权)人: | 西门子公司 |
主分类号: | G01R33/385 | 分类号: | G01R33/385;A61B5/055 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 谢强 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 组合 正电子 发射 磁共振 断层 成像 设备 | ||
技术领域
本发明涉及一种用于对检查对象的内部器官成像的组合正电子发射-磁共振断层成像设备。
背景技术
例如,在US 4939464中已知了将磁共振(MR)检查与正电子发射断层成像(PET)在相同的成像区域的条件下组合在一个装置内。在该现有技术中,将闪烁晶体的光学信号通过光波导从测量空间向外传递至光检测器。光检测器布置在测量空间外部,因为必须保护光探测器不与MR检查所必须的磁场相互作用。
此外,从DE 102005015070中已知了一种组合正电子发射断层成像和磁共振断层成像装置,该装置带有正电子发射断层成像装置和磁共振断层成像装置。在该现有技术中,为使构造尽可能紧凑的目的,将正电子发射断层成像装置部分布置在高频屏蔽和高频天线装置之间,并且在高频天线装置的一侧上提供有防高频辐射的屏蔽套。
在将MR检查与正电子发射断层成像组合时,必须将带有PET闪烁晶体(PET Gantry,PET支架)布置在MR系统的梯度线圈(gradient coil)内。由于极为有限的位置关系,在梯度线圈和PET结构之间的安装间隙只有数个毫米大。
因此产生了这样的问题,即梯度线圈表面的振动(数十g)几乎不衰减地传递到PET支架。这又导致了PET支架的明显的载荷,该PET支架带有PET检测器,粘合的晶体块,以及敏感的电子部件和插头连接,它们仅可承载小量的机械载荷。
从DE 10245942A1中已知了一种磁共振装置,其中可以调节在空腔的边界面和梯度线圈系统的表面之间的形状上柔性的空心体内的内部压力,使得该中间空间可向外密封。
从US 4639672中已知了一种核磁共振装置,其中在磁系统内的梯度线圈内部布置了套环,该套环在梯度线圈和测量空间之间形成了吸声的屏蔽。优选地,该吸声屏蔽是真空的空间并且用作梯度线圈的支架。
发明内容
本发明要解决的技术问题是,实现一种组合正电子发射-磁共振断层成像设备,其中磁共振断层成像设备在PET支架内仅引起小的机械振动。
本发明基于将梯度线圈和PET支架(正电子发射结构)之间的间隙区域抽真空,使得在该区域内产生负压。为此,在两个位置上在梯度线圈的主体和PET支架之间分别产生真空密封而减振的连接,使得在两个连接元件和两个主体之间产生封闭区域,该区域可被抽真空。连接元件例如是硅酮环,该硅酮环优选地布置在间隙区域的两个端部上。如果该真空具有小于1mbar的剩余压力,则很有效地抑制了振动传递以及通过对流的热传递。优选地,通过将薄的超隔离膜引入到间隙区域内,防止了此外所存在的通过辐射的热传递可能性。为了使PET支架的重量尽可能均匀地分布,在第一和第二真空密封之间提供了至少一个另外的在间隙区域内的真空密封,以划分中空空间并且相互支撑成形部分(Formteile)。
替代地,O型密封圈可以用作真空密封的密封件,它同时承担了在梯度线圈中对于PET支架的支撑功能。
根据本发明的用于对检查空间中的检查对象的器官成像的组合正电子发射-磁共振断层成像设备包括:正电子发射断层成像设备,其带有至少一个辐射检测器以用于测量来自检查空间的正电子湮没辐射;以及磁共振断层成像设备,其带有至少一个梯度线圈以便在检查空间内产生梯度磁场,和高频天线装置以便用于在检查空间内发送激励脉冲并且用于从检查空间接收磁共振信号,其中辐射检测器与至少一个梯度线圈共轴并且基本上在相同的轴向高度上围绕检查空间布置,其中提供了第一成形部分,其表面与该至少一个梯度线圈的内部周面()重合,并且提供了第二成形部分,其表面与辐射检测器的外部周面重合,其中两个周面之间的距离在周面的周长上基本上是恒定的,并且沿着第一和第二圆周线分别布置了真空密封件,使得在真空密封件之间形成了封闭的中空空间,其特征在于,在第一和第二密封件之间在间隙区域内提供了至少一个另外的真空密封件,以用于划分中空空间并且用于相互支撑成形部分。
优选地,本发明的实施方式具有如下的特征作为另外的特征,或者只要在技术上是可能的并且有意义的则作为另外的特征:
真空密封件是减振的;
真空密封件由硅酮制成;
真空密封件是O型圈密封件;
真空密封件被布置在周面之间的间隙区域的端部上;
真空密封件被设计用于具有小于1mbar的剩余压力的真空;
在间隙区域内布置了超隔离膜以便用于屏蔽电磁辐射;
周面每个是圆柱形的。
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