[发明专利]投影机及投影装置

权利要求书

1.一种投影机，其特征在于，具备：

射出光的光源，

利用来自该光源的光形成预期大小的图像的图像形成部，和

将通过该图像形成部所形成的图像投影于被投影面的投影装置；

前述投影装置，具有：

配置于通过从前述图像形成部所射出的光形成中间像的位置、使前述光进行漫射的光漫射构件，和

将通过该光漫射构件所漫射的光投影于前述被投影面的投影光学系统；

从前述光漫射构件的预定的位置所射出的光的漫射强度分布，具备相对于光的中心轴至少在两侧各具有1个凸部的分布。

2.一种投影机，其特征在于，具备：

射出光的光源，

利用来自该光源的光形成预期大小的图像的图像形成部，和

将通过该图像形成部所形成的图像投影于被投影面的投影装置；

前述投影装置，具有：

配置于通过从前述图像形成部所射出的光形成中间像的位置、使前述光进行漫射的光漫射构件，和

将通过该光漫射构件所漫射的光投影于前述被投影面的投影光学系统；

从前述光漫射构件的预定的位置所射出的光的漫射强度分布，是跨光的中心轴地具有平坦部的分布。

3.按照权利要求1或2所述的投影机，其特征在于：

在前述图像形成部与前述光漫射构件之间的光路上，设置有形成从前述图像形成部所射出的光的中间像的中间像形成光学系统。

4.按照权利要求1～3中的任何一项所述的投影机，其特征在于：

前述光漫射构件是全息元件。

5.按照权利要求1～4中的任何一项所述的投影机，其特征在于：

前述图像形成部为二维的空间光调制元件，

通过前述光漫射构件使前述空间光调制元件的二维的中间像进行漫射。

6.按照权利要求1～5中的任何一项所述的投影机，其特征在于：

从前述光漫射构件的预定的位置所射出的光的漫射强度分布，是因该光漫射构件的入射端面的光的入射位置而异的分布。

7.按照权利要求1～6中的任何一项所述的投影机，其特征在于：

相比于从前述图像形成部到前述投影光学系统的光学距离，从前述投影光学系统到前述被投影面的光学距离较长。

8.一种投影装置，其特征在于，具备：

形成入射的光的中间像的中间像形成光学系统，

使从该中间像形成光学系统所射出的光进行漫射的光漫射构件，和

将通过该光漫射构件所漫射的光投影于被投影面的投影光学系统；

从前述光漫射构件的预定的位置所射出的光的漫射强度分布，是相对于光的中心轴至少在两侧各具有1个凸部的分布。

9.一种投影装置，其特征在于，具备：

形成入射的光的中间像的中间像形成光学系统，

使从该中间像形成光学系统所射出的光进行漫射的光漫射构件，和

将通过该光漫射构件所漫射的光投影于被投影面的投影光学系统；

从前述光漫射构件的预定的位置所射出的光的漫射强度分布，是跨光的中心轴地具有平坦部的分布。