[发明专利]显示器基板及其制造方法和具有该显示器基板的显示装置

权利要求书

1.一种显示器基板的制造方法，其包括：

形成第一基板；

形成包括显示区域和非显示区域的第二基板，其中所述第一基板面对所述第二基板；

在所述第二基板的透明绝缘基板上形成透明导电层；

在所述透明导电层上形成不透明材料层；

图案化所述透明导电层和所述不透明材料层以形成透明公用电极、虚拟图案和包括形成在所述虚拟图案上的关键图案的不透明图案，其中所述透明公用电极和虚拟图案由所述透明导电层形成，所述不透明图案由所述不透明材料形成，其中所述不透明图案不是形成在在所述显示区域中形成的所述透明公用电极上，而是形成在在所述非显示区域中形成的所述虚拟图案上。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述不透明材料层是不透明金属层。

3.如权利要求2所述的方法，还包括在所述不透明金属层上形成光致抗蚀剂图案，所述光致抗蚀剂图案具有在所述虚拟图案和所述关键图案区域上的第一厚度和在所述公用电极上的小于所述第一厚度的第二厚度。

4.如权利要求3所述的方法，其中所述光致抗蚀剂图案通过利用半色调掩模或狭缝掩模的光刻工艺形成。

5.如权利要求4所述的方法，其中形成所述透明公用电极、所述虚拟图案和所述关键图案包括：

通过利用所述光致抗蚀剂图案将所述不透明金属层和所述透明导电层图案化；

灰化所述光致抗蚀剂图案以便暴露出所述公用电极上的不透明金属层；

通过利用灰化的光致抗蚀剂图案刻蚀所述透明公用电极上的不透明金属层；

剥离所述灰化的光致抗蚀剂图案。

6.如权利要求1所述的方法，其中所述不透明材料层是不透明光致抗蚀剂。

7.如权利要求6所述的方法，制造显示器基板的方法包括：

图案化所述透明导电层和所述不透明光致抗蚀剂以形成透明公用电极、虚拟图案和包括在所述虚拟图案上形成的关键图案的不透明光致抗蚀剂图案，其中所述不透明光致抗蚀剂图案不是形成在在所述显示区域中形成的所述透明公用电极上，而是形成在在所述非显示区域中形成的所述虚拟图案上。

8.如权利要求7所述的方法，其中通过利用半色调掩模或狭缝掩模的光刻工艺形成所述不透明光致抗蚀剂图案。

9.如权利要求8所述的方法，其中所述不透明光致抗蚀剂图案由正型光致抗蚀剂或负型光致抗蚀剂形成。