[发明专利]一种镀膜材料及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种镀膜材料，还涉及该镀膜材料的制备方法。

背景技术

视窗玻璃是电子产品如手机、MP3、MP4、数码相机、摄像机和DVD 的主要配件之一。目前已经广泛使用镀膜的方式对电子产品的视窗进行装 饰，可以使电子产品获得美观的外观装饰和更好的质感，从而提高产品的价 值。

通常的镀膜方法是采用物理气相沉积进行镀膜，其中磁控溅射离子镀的 方法尤其是一种很好的镀膜方法，可以在基板上制备得到金属质感强、结合 力好、耐磨性和耐腐蚀性能优良的镀膜，而且膜层的厚度很薄、不影响高端 产品或复杂形状产品的功能，是公认的绿色环保工艺。通过采用磁控溅射离 子镀的方法还可以制备得到颜色丰富、色彩艳丽的镀膜材料。

在现有技术中，通常采用物理气相沉积技术反复叠加镀覆5-10层氧化 物膜层，然后在氧化物膜层上丝印油墨的方法来获得具有色彩的镀膜材料， 所述物理气相沉积技术一般采用真空蒸发镀膜机进行蒸发镀。但该方法工艺 较为复杂，需要交替叠加多层镀膜，同时由该方法得到的镀膜材料结构复杂 并且结合力差。

发明内容

本发明的目的在于克服上述现有技术的镀膜材料结构复杂的缺陷，提供 一种结构简单的镀膜材料，还提供一种工艺较为简单的该镀膜材料的制备方 法。

本发明提供了一种镀膜材料，该材料包括透明基板和镀覆在所述透明基 板上的膜层，其中，所述膜层由氧化物膜层和金属膜层组成，所述氧化物膜 层位于所述透明基板和金属膜层之间，所述氧化物膜层和金属膜层均为单 层。

本发明还提供了一种镀膜材料的制备方法，该方法包括依次在形成氧化 物膜层的磁控溅射条件下和形成金属膜层的磁控溅射条件下，在磁控靶上施 加电源使磁控靶上的靶材物质溅射并沉积在所述透明基板上，以形成依次镀 覆在所述透明基板上的氧化物膜层和金属膜层。

根据本发明提供的镀膜材料，膜层简单，只由单层氧化物膜层和单层金 属膜层组成，并且可以通过不同氧化物膜层与金属膜层的搭配，是镀膜材料 得到多种颜色效果，并且色彩绚丽、金属质感很强，同时结合力也很好。

根据本发明提供的镀膜材料的制备方法，工艺简单，从而生产效率高。

具体实施方式

本发明提供的镀膜材料包括透明基板和镀覆在所述透明基板上的膜层， 其中，所述膜层由氧化物膜层和金属膜层组成，所述氧化物膜层位于所述透 明基板和金属膜层之间，所述氧化物膜层和金属膜层均为单层。

根据本发明提供的镀膜材料，在优选情况下，所述氧化物膜层的厚度为 30-320纳米、优选为40-300纳米，所述金属膜层的厚度为50-150纳米、优 选为60-120纳米。所述透明基板的厚度为通常的视窗所使用的厚度，例如 为0.5-1.5毫米、优选为0.8-1.2毫米。

根据本发明提供的镀膜材料，在优选情况下，所述氧化物膜层的氧化物 可以为各种可以得到彩色的光学干涉颜色的氧化物，例如二氧化钛、三氧化 二铝、二氧化硅、二氧化铬、二氧化锆或五氧化二钽；所述金属可以为可作 为磁控靶进行溅射的的金属，例如为钛、铝、铬、锆、钽或不锈钢。所述透 明基板可以为各种可作为视窗的基板，例如为玻璃板、石英板、Al₂O₃板或 塑料板。

本发明提供的镀膜材料的制备方法包括依次在形成氧化物膜层的磁控 溅射条件下和形成金属膜层的磁控溅射条件下，在磁控靶上施加电源使磁控 靶上的靶材物质溅射并沉积在所述透明基板上，以形成依次镀覆在所述透明 基板上的氧化物膜层和金属膜层。

形成上述膜层采用磁控溅射离子镀设备进行，优选采用中频磁控溅射离 子镀设备。所述中频磁控溅射离子镀设备包括真空室、加热装置、工件架、 磁控靶、挡板、通气装置、水冷系统，待镀膜的透明基板固定放置在工件架 上。

根据本发明提供的制备方法，进行磁控溅射所采用的电源可以为现有的 各种用于磁控溅射离子镀的电源，优选为中频电源，中频电源的频率一般为 10-150千赫，优选为10-100千赫。

根据本发明提供的制备方法，在优选情况下，所述形成氧化物膜层的磁 控溅射条件使所述氧化物膜层的厚度为30-320纳米、优选为40-300纳米。