[发明专利]Al－Ni－La－Si体系Al－基合金溅射靶及其制备方法

权利要求书

1.一种含有Ni、La和Si的Al-Ni-La-Si体系Al-基合金溅射靶，其中当使用扫描电子显微镜以2000倍的放大倍数观察在垂直于所述溅射靶的平面的横截面中从(1/4)t至(3/4)t的截面时，其中t为厚度，

(1)按面积分数计，平均粒径为0.3μm至3μm的Al-Ni体系金属间化合物的总面积相对于全部Al-Ni体系金属间化合物的总面积为70％以上，所述Al-Ni体系金属间化合物主要由Al和Ni组成；并且

(2)按面积分数计，平均粒径为0.2μm至2μm的Al-Ni-La-Si体系金属间化合物的总面积相对于全部Al-Ni-La-Si体系金属间化合物的总面积为70％以上，所述Al-Ni-La-Si体系金属间化合物主要由Al、Ni、La和Si组成。

2.根据权利要求1所述的Al-Ni-La-Si体系Al-基合金溅射靶，其包含：

0.05原子％至5原子％的量的Ni；

0.10原子％至1原子％的量的La；和

0.10原子％至1.5原子％的量的Si。

3.一种用于制备根据权利要求1所述的Al-Ni-La-Si体系Al-基合金溅射靶的方法，所述方法包括：

制备含有0.05原子％至5原子％的量的Ni、0.10原子％至1原子％的量的La以及0.10原子％至1.5原子％的量的Si的Al-Ni-La-Si体系Al-基合金；

在800至950℃的温度熔化所述Al-基合金，以得到所述Al-Ni-La-Si体系Al-基合金的熔体；

在6Nm³/kg以上的气体/金属比下气雾化所述Al-基合金的熔体，以将所述Al-基合金微型化；

在900至1200mm的喷射距离下将所述微型化的Al-基合金沉积在收集器上，以得到预制坯；

通过致密化方法使所述Al-基合金预制坯致密化，以得到致密体；和

将所述致密体进行塑性加工。

4.根据权利要求3所述的方法，其中所述Al-Ni-La-Si体系Al-基合金溅射靶包含：

0.05原子％至5原子％的量的Ni；

0.10原子％至1原子％的量的La；和

0.10原子％至1.5原子％的量的Si。