[发明专利]一种具有可见光反射层的等离子体显示屏无效
申请号: | 200810135367.9 | 申请日: | 2008-08-04 |
公开(公告)号: | CN101645382A | 公开(公告)日: | 2010-02-10 |
发明(设计)人: | 李德杰 | 申请(专利权)人: | 李德杰 |
主分类号: | H01J17/49 | 分类号: | H01J17/49;H01J17/02;H01J9/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100084北京市海淀区成*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 可见光 反射层 等离子体 显示屏 | ||
1.一种具有可见光反射层的等离子体显示屏,由前板和后板封接并排气而成;前板包括前板玻璃11、设置在前板玻璃上的前板电极、覆盖在电极上的前板透明介质层12和氧化镁介质保护层13;前板电极统称为行电极,包括被称为X电极的透明导电的维持电极14、被称为Y电极的透明导电的扫描-维持电极16、X电极的汇流电极15、Y电极的汇流电极17;后板包括后板玻璃111、设置在后板玻璃上的被称为A电极的寻址电极113、设置在A电极之上并且覆盖后板玻璃表面的后板介质层112、位于后板介质层上的障壁114、涂覆在障壁间沟槽表面上的三基色荧光粉层115、116、和117;其特征在于,在所述的三基色荧光粉与障壁间沟槽表面之间设置一层可见光反射层118,该可见光反射层采用不导电的非连续岛状结构的单层金属薄膜或双层复合薄膜,单层金属薄膜的材料为银、铝或铑,双层复合薄膜中与荧光粉相邻的膜层采用对可见光具有高反射率的金属,包括银、铝、铑,双层复合薄膜的下层采用低熔点金属的氧化物,包括氧化铋、氧化锡、氧化铟、氧化镓。
2.根据权利要求1所述的一种具有可见光反射层的等离子体显示屏,其特征在于:与可见光反射层相配合,所述的后板介质层采用黑介质,用以吸收透过可见光反射层的残余光,提高显示屏的暗室对比度。
3.根据权利要求1所述的一种具有可见光反射层的等离子体显示屏,其特征在于,所述的可见光反射层和荧光粉之间增加一层透明介质薄膜,其功能是防止可见光反射层的金属表面与荧光粉发生化学作用,降低可见光反射层的反射率。
4.根据权利要求1所述的一种具有可见光反射层的等离子体显示屏,其特征在于,一种具有可见光反射层的等离子体显示屏的后板的制备方法,包括如下步骤:
1)在后板玻璃上用常规方法制作A电极、后板介质层和障壁;
2)沉积用于可见光反射层的单层薄膜或双层复合薄膜;
3)涂覆光刻胶;
4)对光刻胶进行掩膜曝光,使得障壁顶部的光刻胶和位于障壁侧面上靠近顶部的光刻胶暴露于紫外线之下而感光,或采用非掩膜曝光,由于障壁顶部的光刻胶和障壁侧面上靠近顶部的光刻胶厚度薄而彻底感光,其余部位非彻底感光;
5)进行显影,暴露出障壁顶部和障壁侧面上靠近顶部的可见光反射层薄膜;
6)刻蚀暴露出的可见光反射层薄膜,然后清洗掉剩余光刻胶,得到位于障壁间沟槽表面上的可见光反射层;
7)沉积透明介质薄膜;
8)在障壁间的沟槽内涂覆三基色荧光粉,可采用丝网印刷或喷墨法进行;
上述步骤3、4、5、6可以同时被取消。
5.根据权利要求4所述的一种具有可见光反射层的等离子体显示屏后板制备方法,其特征在于,所述的用于可见光反射层的单层薄膜的制备可按如下步骤进行:
1)在已经制备了障壁的后板上,沉积银或铝薄膜,沉积时后板加温到200℃以上;
2)将得到的岛状结构的金属薄膜在相应的金属腐蚀液中浸泡,或进行等离子体刻蚀,就可以得到不导电的非连续岛状结构的金属反射层;
如果第1步后得到的薄膜已经是不导电的非连续岛状结构,则第2步取消。
6.根据权利要求4所述的一种具有可见光反射层的等离子体显示屏后板制备方法,其特征在于,所述的用于可见光反射层的单层薄膜的制备可按如下步骤进行:
1)在已经制备了障壁的后板上,沉积银、铝或铑薄膜;
2)在已经沉积了金属薄膜的后板上,沉积有机物薄膜,沉积时后板加温,使得到的有机薄膜呈非连续岛状结构;
3)在金属腐蚀液中浸泡,或进行等离子体刻蚀,刻蚀掉岛状有机薄膜没有覆盖的金属;
4)在有机溶液中清洗掉有机薄膜,得到不导电的非连续岛状结构的金属反射层。
7.根据权利要求4所述的一种具有可见光反射层的等离子体显示屏后板制备方法,其特征在于,所述的用于可见光反射层的双层薄膜的制备可按如下步骤进行:
1)在已经制备了障壁的后板上,沉积铋、锡、铟或镓薄膜,沉积时后板加温使得这些薄膜为非连续岛状结构,厚度大于100纳米;
2)将得到的具有非连续岛状结构的金属铋、锡、铟或镓的薄膜在空气中进行氧化,得到相应的金属氧化物;
3)沉积金属铝、铑或银,厚度小于70纳米。
8.根据权利要求1所述的一种具有可见光反射层的等离子体显示屏,其特征在于,一种具有可见光反射层的等离子体显示屏的后板的制备方法,包括如下步骤:
1)在后板玻璃上用常规方法制作A电极、后板介质层和障壁;
2)沉积用于可见光反射层的单层薄膜或双层复合薄膜;
3)涂覆能够固化的有机薄膜;
4)对有机薄膜进行灰化处理,即在氧气放电等离子中对有机薄膜进行刻蚀,由于障壁顶部的有机薄膜和障壁侧面上靠近顶部的有机薄膜厚度薄而被彻底刻蚀,其余部位的有机薄膜被保留,暴露出障壁顶部和障壁侧面上靠近顶部的可见光反射层薄膜;
5)刻蚀暴露出的可见光反射层薄膜,然后清洗掉剩余的有机薄膜,得到位于障壁间沟槽表面上的可见光反射层;
6)沉积透明介质薄膜;
7)在障壁间的沟槽内涂覆三基色荧光粉,可采用丝网印刷或喷墨法进行。
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