[发明专利]荧光体及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200810135371.5 申请日: 2008-07-25
公开(公告)号: CN101633842A 公开(公告)日: 2010-01-27
发明(设计)人: 陈登铭;邱奕祯 申请(专利权)人: 财团法人交大思源基金会
主分类号: C09K11/78 分类号: C09K11/78;H01L33/00;F21V9/16
代理公司: 北京三幸商标专利事务所 代理人: 刘激扬
地址: 台湾省新*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 荧光 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种荧光体,其为掺杂三价铈离子的碱土锗酸盐化合物,且 用如下通式表示:

Am(B1-xCex)nGeyOz

其中A为从由Ca和Sr组成的群组中选出的至少一种元素;B 为Y;m为3、n为2、y为3、z为12;并且x的数值范围为0.001 ≤x≤0.05。

2.如权利要求1所述的荧光体,其可通过发光元件所发射的一 次辐射而激发该荧光体产生二次辐射。

3.如权利要求2所述的荧光体,其中该一次辐射的波长在 300nm~500nm的范围内,且该二次辐射的波长较该一次辐射的波 长更长。

4.如权利要求3所述的荧光体,其中该一次辐射的波长在 320nm~480nm的范围内,而该二次辐射的波长在450nm~680nm的 范围内,CIE色度坐标值(x,y)的范围为0.20≤x≤0.40,0.40≤y≤ 0.60。

5.如权利要求4所述的荧光体,其中该一次辐射的波长在 350nm~470nm的范围内,而该二次辐射的波长在480nm~510nm的 范围内,CIE色度坐标值(x,y)的范围为0.25≤x≤0.35,0.45≤y≤ 0.55。

6.如权利要求3所述的荧光体,其中该一次辐射的波长在 310nm~400nm的范围内,而该二次辐射的波长在450nm~490nm的 范围内,CIE色度坐标值(x,y)的范围为0.10≤x≤0.25,0.01≤y≤ 0.17。

7.如权利要求6所述的荧光体,其中该一次辐射的波长在 350nm~400nm的范围内,而该二次辐射的CIE色度坐标值(x,y)的 范围为0.15≤x≤0.22,0.03≤y≤0.15。

8.一种制造权利要求1至7中任一项所述荧光体的方法,包括 如下步骤:

按化学计量称取材料(A)至少一种从CaCO3和SrCO3中选出的 碳酸盐、(B)Y2O3、(C)CeO2以及(D)GeO2

将所称取的材料研磨并混合均匀;

将如此获得的混合物置入氧化铝舟型坩埚中,在1200~1400℃ 下进行固态合成。

9.如权利要求8所述的方法,其中该固态合成时间为4~10小 时。

10.一种发光装置,包括发光元件和荧光体,其中该发光元件 所发射的一次辐射的波长介于300nm~500nm之间,该荧光体为权 利要求1~7中任一项的荧光体,该荧光体可吸收该一次辐射的一 部分,而发出与该一次辐射的波长相异的二次辐射。

11.如权利要求10所述的发光装置,其中该二次辐射的波长较 该一次辐射的波长更长。

12.如权利要求10所述的发光装置,其中该发光元件为半导体 光源、发光二极管、激光二极管或有机发光装置。

13.如权利要求10所述的发光装置,其中该荧光体涂布在该发 光元件的表面。

14.如权利要求10所述的发光装置,其将该荧光体封装在该发 光元件的表面。

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