[发明专利]荧光体及其制造方法有效
申请号: | 200810135371.5 | 申请日: | 2008-07-25 |
公开(公告)号: | CN101633842A | 公开(公告)日: | 2010-01-27 |
发明(设计)人: | 陈登铭;邱奕祯 | 申请(专利权)人: | 财团法人交大思源基金会 |
主分类号: | C09K11/78 | 分类号: | C09K11/78;H01L33/00;F21V9/16 |
代理公司: | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人: | 刘激扬 |
地址: | 台湾省新*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 荧光 及其 制造 方法 | ||
1.一种荧光体,其为掺杂三价铈离子的碱土锗酸盐化合物,且 用如下通式表示:
Am(B1-xCex)nGeyOz
其中A为从由Ca和Sr组成的群组中选出的至少一种元素;B 为Y;m为3、n为2、y为3、z为12;并且x的数值范围为0.001 ≤x≤0.05。
2.如权利要求1所述的荧光体,其可通过发光元件所发射的一 次辐射而激发该荧光体产生二次辐射。
3.如权利要求2所述的荧光体,其中该一次辐射的波长在 300nm~500nm的范围内,且该二次辐射的波长较该一次辐射的波 长更长。
4.如权利要求3所述的荧光体,其中该一次辐射的波长在 320nm~480nm的范围内,而该二次辐射的波长在450nm~680nm的 范围内,CIE色度坐标值(x,y)的范围为0.20≤x≤0.40,0.40≤y≤ 0.60。
5.如权利要求4所述的荧光体,其中该一次辐射的波长在 350nm~470nm的范围内,而该二次辐射的波长在480nm~510nm的 范围内,CIE色度坐标值(x,y)的范围为0.25≤x≤0.35,0.45≤y≤ 0.55。
6.如权利要求3所述的荧光体,其中该一次辐射的波长在 310nm~400nm的范围内,而该二次辐射的波长在450nm~490nm的 范围内,CIE色度坐标值(x,y)的范围为0.10≤x≤0.25,0.01≤y≤ 0.17。
7.如权利要求6所述的荧光体,其中该一次辐射的波长在 350nm~400nm的范围内,而该二次辐射的CIE色度坐标值(x,y)的 范围为0.15≤x≤0.22,0.03≤y≤0.15。
8.一种制造权利要求1至7中任一项所述荧光体的方法,包括 如下步骤:
按化学计量称取材料(A)至少一种从CaCO3和SrCO3中选出的 碳酸盐、(B)Y2O3、(C)CeO2以及(D)GeO2;
将所称取的材料研磨并混合均匀;
将如此获得的混合物置入氧化铝舟型坩埚中,在1200~1400℃ 下进行固态合成。
9.如权利要求8所述的方法,其中该固态合成时间为4~10小 时。
10.一种发光装置,包括发光元件和荧光体,其中该发光元件 所发射的一次辐射的波长介于300nm~500nm之间,该荧光体为权 利要求1~7中任一项的荧光体,该荧光体可吸收该一次辐射的一 部分,而发出与该一次辐射的波长相异的二次辐射。
11.如权利要求10所述的发光装置,其中该二次辐射的波长较 该一次辐射的波长更长。
12.如权利要求10所述的发光装置,其中该发光元件为半导体 光源、发光二极管、激光二极管或有机发光装置。
13.如权利要求10所述的发光装置,其中该荧光体涂布在该发 光元件的表面。
14.如权利要求10所述的发光装置,其将该荧光体封装在该发 光元件的表面。
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