[发明专利]对准方法和装置、光刻装置、计量装置和器件的制造方法

权利要求书

1、一种对准装置，配置为检测衬底上的对准标记，该装置包括：

配置为发射辐射束的空间相干的辐射源；

物镜，其配置为把该辐射束引导到衬底上的该标记上并且收集被该标记衍射的辐射；

传感器，其配置为检测在物镜的光瞳平面中的角度分解光谱；以及

控制电路，其设置成检测所检测的角度分解光谱的空间或时间或两者的变化，并且从中获得指示对准标记相对于物镜的位置的信息。

2、如权利要求1所述的对准装置，进一步包括：

定位器，其配置为实现衬底和物镜之间的相对运动，其中控制电路被设置成与衬底和物镜之间的相对运动同步地检测所检测的角度分解光谱的变化。

3、如权利要求1所述的对准装置，进一步包括：

定位器，其被配置为将衬底定位在该物镜的离焦位置上，其中控制电路被设置为检测所检测的角度分解光谱的条纹。

4、如权利要求1所述的对准装置，其中辐射源包括：

宽带辐射源，设置为发射出具有第一波长范围的第一辐射束；和

滤波器装置，设置为选择具有第二波长范围的辐射束作为输出辐射束，该第二波长范围比第一波长范围窄。

5、如权利要求4所述的对准装置，其中该滤波器装置包括：声光可调滤波器，所述声光可调滤波器包括：设置为接收第一辐射束的声光晶体；连接到该声光可调滤波器并设置为在所述声光可调滤波器中激发声波的换能器；以及束选择装置，其设置为选择由声光晶体响应于第一辐射束和声波而输出的作为具有第二波长范围的第二辐射束的多个辐射束之一作为输出束，其中第二波长范围窄于第一波长范围。

6、如权利要求4所述的对准装置，其中滤波器装置包括衍射光栅。

7、如权利要求4所述的对准装置，其中滤波器装置包括一组可交换的干涉滤波器。

8、如权利要求4所述的对准装置，其中该宽带辐射源是选自于由超连续激光器、激光二极管以及超发光二极管构成的组。

9、如权利要求1所述的对准装置，其中传感器选自于由CCD相机和CMOS传感器构成的组。

10、如权利要求1所述的对准装置，其中辐射源包括配置为提供标记的环状照射的光束调整光学系统。

11、如权利要求10所述的对准装置，其中该物镜具有足以捕获来自标记的+1和-1衍射级的至少一部分的数值孔径。

12、如权利要求11所述的对准装置，其中该控制电路配置为用来检测在所检测的角度分解光谱的一部分中的振荡，其中在所述部分中+1^st和-1^st衍射级重叠。

13、如权利要求1所述的对准装置，其中该控制电路被配置为用来检测在所检测的角度分解光谱的至少一部分中的振荡，其中在所述至少一部分中0^th衍射级与+1^st和-1^st衍射级至少之一重叠。

14、如权利要求1所述的对准装置，其中该辐射源包括配置为以所需的照射模式照射衬底的可调光束调整光学系统。

15、一种光刻装置，包括：

照明系统，布置为照射图案；

衬底台，配置为保持衬底；

投影系统，设置为在衬底上投影所述图案的像；

对准系统，配置为检测衬底上的对准标记，该装置包括：

配置为发射辐射束的空间相干光源；

物镜，其配置为把该辐射束引导到衬底上的对准标记上，并收集被该标记衍射的辐射；

传感器，其配置为检测在物镜的光瞳平面中的角度分解光谱；和

控制电路，其配置成检测所检测的角度分解光谱的空间或时间或两者的变化；以及

定位系统，其响应于通过对准系统对该对准标记的检测；并且该定位系统被配置为在该投影系统的像场中定位该衬底。

16、如权利要求15所述的装置，包括曝光站和测量站，该衬底台在曝光站和测量站之间移动，以及对准装置位于测量站处。