[发明专利]缓蚀性阴离子插层水滑石/氧化物复合材料制备及应用无效

专利信息
申请号: 200810137582.2 申请日: 2008-11-21
公开(公告)号: CN101418154A 公开(公告)日: 2009-04-29
发明(设计)人: 王君;何洋;于湘;李丹丹;景晓燕;张密林 申请(专利权)人: 哈尔滨工程大学
主分类号: C09D7/12 分类号: C09D7/12;C09D163/00;C09D5/08;C23F11/18
代理公司: 哈尔滨市船大专利事务所 代理人: 张贵丰
地址: 150001黑龙江省哈*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要:
搜索关键词: 缓蚀性 阴离子 插层水 滑石 氧化物 复合材料 制备 应用
【权利要求书】:

1、一种缓蚀性阴离子插层水滑石/纳米氧化物复合材料,其特征是:其化学组成为MaOb/[M2+1-xM3+x(OH)2]x+(A)n-x/n·mH2O;其中M2+代表+2价金属离子,是Mg2+、Zn2+、Ni2+、Ce2+或Fe2+;M3+代表+3价金属离子,是Al3+、Cr3+、Ce3+、Fe3+或Ti3+;An-为具有缓释效果的阴离子,是钒酸盐、钼酸盐、钨酸盐、铬酸盐或磷钼酸盐;MaOb代表+2价和+3价金属离子的氧化物,以+2价金属离子的氧化物为主。

2、根据权利要求1所述的缓蚀性阴离子插层水滑石/纳米氧化物复合材料,其特征是:所述的MaOb代表+2价和+3价金属离子的氧化物的金属离子是Mg2+、Zn2+、Ni2+或Fe3+

3、一种缓蚀性阴离子插层水滑石/纳米氧化物复合材料的制备方法,其特征是:

室温下,按照M2+/M3+摩尔比为2.2~3.5的比例分别称取+2价金属离子和+3价金属离子的可溶性硝酸盐,配制成300mL硝酸盐水溶液,其中M2+为Mg2+、Zn2+、Ni2+、Ce2+、Fe2+中的一种,M3+为Al3+、Cr3+、Ce3+、Fe3+、Ti3+中的一种,以钒酸盐、钼酸盐、钨酸盐、铬酸盐、磷钼酸盐中的一种为插层阴离子的钠盐,NaOH配成溶液;

先将插层阴离子的钠盐溶液置于容器中,调节溶液的pH值,再将硝酸盐水溶液和NaOH溶液同时逐滴等速加入到容器中,控制悬浮液的pH值范围为10.5~11.5,滴加完毕后,在N2保护下继续恒温反应10h,然后于室温下放置12h,过滤,除CO2蒸馏水洗涤滤饼至中性得到前驱体,前驱体在80℃烘箱中干燥,研磨。

4、根据权利要求3所述的缓蚀性阴离子插层水滑石/纳米氧化物复合材料的制备方法,其特征是:在将前驱体在80℃烘箱中干燥步骤之前,先将前驱体在马弗炉中焙烧2~3h,焙烧温度450~720℃,焙烧后浸于除CO2的蒸馏水,同时逐滴等速滴加插层阴离子的钠盐溶液和碱溶液,在N2保护下反应4-10h,满足An+/M3+摩尔比为0.8~1.5,pH范围为8.5~9.5,过滤,除CO2蒸馏水洗涤滤饼至中性。

5、根据权利要求4所述的缓蚀性阴离子插层水滑石/纳米氧化物复合材料的制备方法,其特征是:所述的碱溶液是氨水。

6、一种缓蚀性阴离子插层水滑石/纳米氧化物复合材料的应用,其特征是:缓蚀性阴离子插层水滑石/纳米氧化物复合材料按5%-35%的质量分数添加于环氧树脂中制成用于钢铁、铝合金及镁合金的腐蚀防护涂层涂料。

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